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专利摘要

本发明涉及一种光谱选择性高温太阳能吸收涂层,该涂层由抛光不锈钢片构成的吸热体基底、金属W构成的红外反射层、HfNbTaTiZrN构成的主吸收层、HfNbTaTiZrNO构成的次吸收层和Al2O3构成的减反射层组成。
主吸收层是指采用等摩尔比的金属Hf、Nb、Ta、Ti、Zr通过熔炼法制备的HfNbTaTiZr高熵合金的氮化物;次吸收层是指采用等摩尔比的金属Hf、Nb、Ta、Ti、Zr通过熔炼法制备的HfNbTaTiZr高熵合金的氮氧化物。
本发明还公开了该涂层的制备方法。
本发明制备工艺简单、成本较低,所制备的涂层在大气质量因子AM1.5条件下,吸收率≥0.95,发射率≤0.10,且该涂层在真空700℃具有良好的长期热稳定性能,在太阳能光热发电领域具有一定的学术价值和应用价值。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910965110.4
申请日
2019-10-11
公开日
2020-01-03
公开号
CN110643942A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

高祥虎 刘刚

申请人

中国科学院兰州化学物理研究所

申请人地址

730000 甘肃省兰州市城关区天水中路18号

专利摘要

本发明涉及一种光谱选择性高温太阳能吸收涂层,该涂层由抛光不锈钢片构成的吸热体基底、金属W构成的红外反射层、HfNbTaTiZrN构成的主吸收层、HfNbTaTiZrNO构成的次吸收层和Al2O3构成的减反射层组成。
主吸收层是指采用等摩尔比的金属Hf、Nb、Ta、Ti、Zr通过熔炼法制备的HfNbTaTiZr高熵合金的氮化物;次吸收层是指采用等摩尔比的金属Hf、Nb、Ta、Ti、Zr通过熔炼法制备的HfNbTaTiZr高熵合金的氮氧化物。
本发明还公开了该涂层的制备方法。
本发明制备工艺简单、成本较低,所制备的涂层在大气质量因子AM1.5条件下,吸收率≥0.95,发射率≤0.10,且该涂层在真空700℃具有良好的长期热稳定性能,在太阳能光热发电领域具有一定的学术价值和应用价值。

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