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专利摘要

本发明公开了一种Ga

专利状态

基础信息

专利号: CN201810772473.1
申请日: 2018-07-13
公开日: 2021-07-09
公开号: CN109053157B

主分类号: /C/C23/ 化学；冶金
标准类别: 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门: 国家知识产权局
专利状态: 有效专利

发明人

郑树文郑涛尚秋月张涛

申请人

华南师范大学

申请人地址

510275 广东省广州市天河区中山大道西55号华南师范大学光电子材料与技术研究所

专利摘要

本发明公开了一种Ga

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