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专利摘要

本发明涉及一种金属膜蚀刻液组合物及利用其的导电图案形成方法,更详细而言,涉及如下金属膜蚀刻液组合物,该组合物总重量中,包含:磷酸40~60重量%;硝酸3~8重量%;乙酸5~20重量%;磷酸盐0.1~3重量%;包含二醇系化合物和含有多个磷酸基的化合物中的至少一种的防吸附剂0.1~6重量%;及余量的水,从而有效防止经蚀刻的金属再吸附于基板上,不损伤下部膜,并且对于蚀刻对象膜显示优异的蚀刻特性。

专利状态

基础信息

专利号
CN201810026960.3
申请日
2018-01-11
公开日
2018-10-16
公开号
CN108660458A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

金镇成 金兑勇 梁圭亨

申请人

东友精细化工有限公司

申请人地址

韩国全罗北道

专利摘要

本发明涉及一种金属膜蚀刻液组合物及利用其的导电图案形成方法,更详细而言,涉及如下金属膜蚀刻液组合物,该组合物总重量中,包含:磷酸40~60重量%;硝酸3~8重量%;乙酸5~20重量%;磷酸盐0.1~3重量%;包含二醇系化合物和含有多个磷酸基的化合物中的至少一种的防吸附剂0.1~6重量%;及余量的水,从而有效防止经蚀刻的金属再吸附于基板上,不损伤下部膜,并且对于蚀刻对象膜显示优异的蚀刻特性。

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