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专利摘要

本发明属于多孔合金制备领域,并具体公开了一种基于选择性溶解的多孔NiTi合金的制备方法及产品,其通过在Ni‑Ti二元合金中添加Gd元素,利用Gd元素能够与Ni元素反应而不与Ti元素反应的特点,使得合金中只生成Ni‑Ti和Ni‑Gd相,然后利用酸溶液选择性腐蚀去除Ni‑Gd相以获得孔隙均匀且可控的多孔NiTi合金。
本发明可制备孔隙尺寸小且分布均匀的多孔NiTi合金,具有操作过程简便、成本较低的优点。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010670998.1
申请日
2020-07-13
公开日
2021-05-07
公开号
CN111850327B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

郭威 邵雨曼 郑伟杰 赵觅 吴树森 吕书林

申请人

华中科技大学

申请人地址

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

专利摘要

本发明属于多孔合金制备领域,并具体公开了一种基于选择性溶解的多孔NiTi合金的制备方法及产品,其通过在Ni‑Ti二元合金中添加Gd元素,利用Gd元素能够与Ni元素反应而不与Ti元素反应的特点,使得合金中只生成Ni‑Ti和Ni‑Gd相,然后利用酸溶液选择性腐蚀去除Ni‑Gd相以获得孔隙均匀且可控的多孔NiTi合金。
本发明可制备孔隙尺寸小且分布均匀的多孔NiTi合金,具有操作过程简便、成本较低的优点。

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