本发明涉及一种蚀刻液及蚀刻液的制备方法，蚀刻液包括如下质量浓度的各组分：过硫酸铵150克/升‑350克/升；稳定剂10克/升‑110克/升；促进剂0.01克/升‑0.05克/升；表面活性剂0.001克/升‑0.5克/升；水余量。
上述蚀刻液，相对于传统的蚀刻液，未含氯，因此，蚀刻液体系中未包含氯离子，不会对环境产生污染，消除了因氯离子所造成的环境及大气污染，有利于清洁生产。
且在蚀刻过程中，铣切速度较快，能够适用于铜基线路板的化学铣切。

杨丁 黄双武

深圳市中科东明表面处理新材料技术有限公司 博罗县东明化工有限公司 博罗县东明新材料研究所

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本发明涉及一种蚀刻液及蚀刻液的制备方法，蚀刻液包括如下质量浓度的各组分：过硫酸铵150克/升‑350克/升；稳定剂10克/升‑110克/升；促进剂0.01克/升‑0.05克/升；表面活性剂0.001克/升‑0.5克/升；水余量。
上述蚀刻液，相对于传统的蚀刻液，未含氯，因此，蚀刻液体系中未包含氯离子，不会对环境产生污染，消除了因氯离子所造成的环境及大气污染，有利于清洁生产。
且在蚀刻过程中，铣切速度较快，能够适用于铜基线路板的化学铣切。