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专利摘要

为克服现有LTPS技术中对M3层和LS层蚀刻效率低、成本高的问题,本发明提供了一种钼铝共用蚀刻液,包括磷酸、硝酸、醋酸、添加剂和水;以所述蚀刻液的总重量为基准,所述磷酸的含量为55‑65wt%、硝酸的含量为3‑5wt%、醋酸的含量为12‑18wt%、添加剂的含量为2.5‑4.0wt%,余量为水;所述添加剂包括金属盐、无机铵盐和助剂;所述蚀刻液中,无机铵盐的含量为0.1‑0.3wt%;所述助剂选自4‑羟基苯磺酸、二乙基三胺五乙酸、植酸中的一种或多种。
同时,本发明还提供了采用该蚀刻液进行蚀刻的方法。
本发明提供的钼铝共用蚀刻液可同时用于对M3层和LS层进行蚀刻,简化了工艺,提高了效率,降低了成本。

专利状态

基础信息

专利号
CN201710913895.1
申请日
2017-09-30
公开日
2019-04-09
公开号
CN109594079A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

鄢艳华 康威

申请人

深圳新宙邦科技股份有限公司

申请人地址

518000 广东省深圳市坪山新区沙坣同富裕工业区

专利摘要

为克服现有LTPS技术中对M3层和LS层蚀刻效率低、成本高的问题,本发明提供了一种钼铝共用蚀刻液,包括磷酸、硝酸、醋酸、添加剂和水;以所述蚀刻液的总重量为基准,所述磷酸的含量为55‑65wt%、硝酸的含量为3‑5wt%、醋酸的含量为12‑18wt%、添加剂的含量为2.5‑4.0wt%,余量为水;所述添加剂包括金属盐、无机铵盐和助剂;所述蚀刻液中,无机铵盐的含量为0.1‑0.3wt%;所述助剂选自4‑羟基苯磺酸、二乙基三胺五乙酸、植酸中的一种或多种。
同时,本发明还提供了采用该蚀刻液进行蚀刻的方法。
本发明提供的钼铝共用蚀刻液可同时用于对M3层和LS层进行蚀刻,简化了工艺,提高了效率,降低了成本。

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