本发明公开了一种退镀液、其制备方法和应用。
本发明的退镀液，其包括下列质量分数的组分：5％‑10％的氧化剂、1％‑5％的缓蚀剂、1％‑2％的光亮剂、1％‑5％的促溶剂、10％‑15％的加速剂、1％‑5％的活化剂、和水；氧化剂为硝酸；缓蚀剂为苯酚类化合物；光亮剂为K值小于20的聚乙烯吡咯烷酮；促溶剂为含氯化合物；加速剂为氨基磺酸和/或柠檬酸。
本发明的退镀液适用范围广、退镀速度快、对基材腐蚀率低、无沉淀、稳定性好、黄烟产生量少、硝酸使用量少且损失率低，且具有非常广阔的市场应用前景。

王溯 孙红旗

上海新阳半导体材料股份有限公司

201616 上海市松江区思贤路3600号

本发明公开了一种退镀液、其制备方法和应用。
本发明的退镀液，其包括下列质量分数的组分：5％‑10％的氧化剂、1％‑5％的缓蚀剂、1％‑2％的光亮剂、1％‑5％的促溶剂、10％‑15％的加速剂、1％‑5％的活化剂、和水；氧化剂为硝酸；缓蚀剂为苯酚类化合物；光亮剂为K值小于20的聚乙烯吡咯烷酮；促溶剂为含氯化合物；加速剂为氨基磺酸和/或柠檬酸。
本发明的退镀液适用范围广、退镀速度快、对基材腐蚀率低、无沉淀、稳定性好、黄烟产生量少、硝酸使用量少且损失率低，且具有非常广阔的市场应用前景。