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专利摘要

本发明涉及真空镀膜领域,尤其是一种真空镀膜用氢气提纯方法及其实现装置,其特征在于:镀膜时,将氢气发生单元产得的氢气通过除水干燥装置后再通入所述镀膜腔室;除水干燥装置再生时,加热所述除水干燥装置,并利用一旁路气体携带所述除水干燥装置经加热后产生的水蒸气,完成所述除水干燥装置的再生;并且,所述除水干燥装置进行再生时,可在所述真空镀膜室的排气系统驱动下将所述除水干燥装置经加热后产生的水蒸气和旁路气体抽离所述除水干燥装置。
本发明的优点是:产得的氢气纯净度高;镀膜效果好;巧妙利用真空镀膜系统的排气装置和工作气体提升除水干燥装置再生效率和再生效果,设备利用率高,安全可靠;操作简单,自动化程度高,成本低。

专利状态

基础信息

专利号
CN201811461485.9
申请日
2018-12-02
公开日
2021-07-13
公开号
CN109518125B
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

王德智 谢雄星 戴秀海

申请人

光驰科技(上海)有限公司

申请人地址

200444 上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号

专利摘要

本发明涉及真空镀膜领域,尤其是一种真空镀膜用氢气提纯方法及其实现装置,其特征在于:镀膜时,将氢气发生单元产得的氢气通过除水干燥装置后再通入所述镀膜腔室;除水干燥装置再生时,加热所述除水干燥装置,并利用一旁路气体携带所述除水干燥装置经加热后产生的水蒸气,完成所述除水干燥装置的再生;并且,所述除水干燥装置进行再生时,可在所述真空镀膜室的排气系统驱动下将所述除水干燥装置经加热后产生的水蒸气和旁路气体抽离所述除水干燥装置。
本发明的优点是:产得的氢气纯净度高;镀膜效果好;巧妙利用真空镀膜系统的排气装置和工作气体提升除水干燥装置再生效率和再生效果,设备利用率高,安全可靠;操作简单,自动化程度高,成本低。

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