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专利摘要

本发明涉及一种二氧化碳电化学还原用Sn电极制备及应用,包括基底层及基底层上附着的含磺酸根高分子材料的Sn催化剂层,所述制作步骤为:对炭毡或炭纸进行处理,然后在乙醇、丙酮中进行除油处理清洗;通过电位的方法在上述基底层表面电化学镀锡得到Sn催化剂层;将电解质溶液在惰性气氛的保护下,并在不同恒电流密度下对基底层上电沉积Sn,并将电沉积后的Sn催化剂层用乙醇、水进行清洗、干燥处理;将沉积Sn催化剂层的基底层在的后处理电解液中进行还原反应;进行洗涤、干燥后置于真空烘箱进行干燥,制得带有含磺酸根聚合物功能化的Sn催化剂的电极。
本发明可以使高分子材料均匀嫁接于Sn表面,提高电极的稳定性,提高了电极表面的质子浓度。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010427282.9
申请日
2020-05-19
公开日
2020-08-11
公开号
CN111519207A
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

钟和香 潘立卫 张晶

申请人

大连大学

申请人地址

116600 辽宁省大连市开发区学府大街10号

专利摘要

本发明涉及一种二氧化碳电化学还原用Sn电极制备及应用,包括基底层及基底层上附着的含磺酸根高分子材料的Sn催化剂层,所述制作步骤为:对炭毡或炭纸进行处理,然后在乙醇、丙酮中进行除油处理清洗;通过电位的方法在上述基底层表面电化学镀锡得到Sn催化剂层;将电解质溶液在惰性气氛的保护下,并在不同恒电流密度下对基底层上电沉积Sn,并将电沉积后的Sn催化剂层用乙醇、水进行清洗、干燥处理;将沉积Sn催化剂层的基底层在的后处理电解液中进行还原反应;进行洗涤、干燥后置于真空烘箱进行干燥,制得带有含磺酸根聚合物功能化的Sn催化剂的电极。
本发明可以使高分子材料均匀嫁接于Sn表面,提高电极的稳定性,提高了电极表面的质子浓度。

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