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专利摘要

本发明公开了一种碲平板电解后液的处理方法,包括以下步骤:(1)将碲平板电解后液加入循环电解槽中进行旋流电解,电解结束后得到阴极产物与二次电解后液;(2)往二次电解后液中添加氢氧化钠,并加热使氢氧化钠溶解得到混合液;(3)对所述混合液搅拌冷却,再离心处理得到沉淀物与除杂后液,所述除杂后液返回二氧化碲溶解造液工序。
本发明对工业生产中碲平板电解后液中的碲进行深度回收,电积尾液中碲浓度降至0.8‑2.5g/L,碲回收率高。
本发明通过对电解后液补碱除去大部分Sn、As等杂质,且除杂后液可以返回二氧化碲溶解造液工序,形成了碲提取闭路循环,游离碱得到了有效利用。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010547388.2
申请日
2020-06-16
公开日
2020-09-11
公开号
CN111647902A
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

田庆华 李俊 郭学益 李栋 许志鹏

申请人

中南大学

申请人地址

410083 湖南省长沙市麓山南路932号

专利摘要

本发明公开了一种碲平板电解后液的处理方法,包括以下步骤:(1)将碲平板电解后液加入循环电解槽中进行旋流电解,电解结束后得到阴极产物与二次电解后液;(2)往二次电解后液中添加氢氧化钠,并加热使氢氧化钠溶解得到混合液;(3)对所述混合液搅拌冷却,再离心处理得到沉淀物与除杂后液,所述除杂后液返回二氧化碲溶解造液工序。
本发明对工业生产中碲平板电解后液中的碲进行深度回收,电积尾液中碲浓度降至0.8‑2.5g/L,碲回收率高。
本发明通过对电解后液补碱除去大部分Sn、As等杂质,且除杂后液可以返回二氧化碲溶解造液工序,形成了碲提取闭路循环,游离碱得到了有效利用。

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