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专利摘要

本发明公开了一种防止电催化还原二氧化硫过程中单质硫对电极表面黏附的方法。
电催化还原过程采用三电极体系,三电极体系的阴阳极室采用质子膜隔开,阴极室内的电解液为添加了表面活性剂的二氧化硫吸收液,阳极室内的电解液为Na

专利状态

基础信息

专利号
CN202010528603.4
申请日
2020-06-11
公开日
2020-09-15
公开号
CN111663148A
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

刘恢 李青竹 王海鹰 唐崇俭 王庆伟 刘旭东 沈锋华 柴立元 朱芳芳 向开松 谢小峰 闵小波 杨志辉

申请人

中南大学

申请人地址

410083 湖南省长沙市岳麓区麓山南路932号

专利摘要

本发明公开了一种防止电催化还原二氧化硫过程中单质硫对电极表面黏附的方法。
电催化还原过程采用三电极体系,三电极体系的阴阳极室采用质子膜隔开,阴极室内的电解液为添加了表面活性剂的二氧化硫吸收液,阳极室内的电解液为Na

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