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专利摘要

一种用于在膜中的特定位置处制造纳米孔的方法,该方法包括:在向膜施加电势或电流中的一种的同时,控制在膜上的特定位置处的膜的介电强度;监测当电势或电流中的一种正被施加在膜上时膜上的电特性;检测当电势或电流中的一种正被施加在膜上时膜上的电特性的突然变化;以及响应于检测到电特性的突然变化,将电势或电流从膜上移除。

专利状态

基础信息

专利号
CN201680022823.1
申请日
2016-02-24
公开日
2021-03-09
公开号
CN107530638B
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

乔斯·巴斯塔曼特 凯尔·布里格斯 文森特·塔巴尔-柯萨

申请人

渥太华大学

申请人地址

加拿大安大略省

专利摘要

一种用于在膜中的特定位置处制造纳米孔的方法,该方法包括:在向膜施加电势或电流中的一种的同时,控制在膜上的特定位置处的膜的介电强度;监测当电势或电流中的一种正被施加在膜上时膜上的电特性;检测当电势或电流中的一种正被施加在膜上时膜上的电特性的突然变化;以及响应于检测到电特性的突然变化,将电势或电流从膜上移除。

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