目录

专利摘要

本发明公开了一种化学电位稳定的复合还原剂。
所述复合还原剂包括二氧化硫脲,还原性糖,化学电位控制剂,其中,化学电位控制剂为亚硝酸钠、丙烯酰胺、糠醛、环己酮、三氯乙酸至少一种。
使用所述复合还原剂,实现了将前处理与染色工序合二为一的染色工艺,减少处理时间,提供生产效率,染色成品染色均匀,强度和手感得到改善。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910246452.0
申请日
2019-03-28
公开日
2021-03-23
公开号
CN110453510B
主分类号
/DD/D06/ 纺织;造纸
标准类别
织物等的处理;洗涤;其他类不包括的柔性材料
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

李瑞卿 王伟 周长文

申请人

李瑞卿 王伟 周长文

申请人地址

518048 广东省深圳市福田区新洲花园大厦C栋2402

专利摘要

本发明公开了一种化学电位稳定的复合还原剂。
所述复合还原剂包括二氧化硫脲,还原性糖,化学电位控制剂,其中,化学电位控制剂为亚硝酸钠、丙烯酰胺、糠醛、环己酮、三氯乙酸至少一种。
使用所述复合还原剂,实现了将前处理与染色工序合二为一的染色工艺,减少处理时间,提供生产效率,染色成品染色均匀,强度和手感得到改善。

相似专利技术