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专利摘要

本发明公开了一种高地应力因素主导下地下洞室纵轴线布置方法,属于岩石力学地下工程洞室布置设计技术领域,用以解决高地应力因素主导下的地下洞室纵轴线布置优化设计问题,减轻或规避因洞室围岩偏压而引起的严重变形破坏风险。
本发明提出以主应力空间π平面法向的水平投影方向为参考方向,使高地应力条件下洞室的纵轴线尽量与上述水平投影方向呈较小夹角甚至重合的方向进行布置,可有效地提高洞室纵向压缩效应,减小洞室横向剪切变形效应,以充分利用高地应力引起的高围压增加围岩自承载能力,同时限制围岩横向剪切变形破坏,实现提升洞室围岩稳定状态和降低开挖支护工程投资的目的。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911182405.0
申请日
2019-11-27
公开日
2020-02-04
公开号
CN110747832A
主分类号
/EE/E21/ 固定建筑物
标准类别
土层或岩石的钻进;采矿
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

侯东奇 金伟 张顺利 刘瑞雪 杨英 魏映瑜

申请人

中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司

申请人地址

610072 四川省成都市青羊区浣花北路1号

专利摘要

本发明公开了一种高地应力因素主导下地下洞室纵轴线布置方法,属于岩石力学地下工程洞室布置设计技术领域,用以解决高地应力因素主导下的地下洞室纵轴线布置优化设计问题,减轻或规避因洞室围岩偏压而引起的严重变形破坏风险。
本发明提出以主应力空间π平面法向的水平投影方向为参考方向,使高地应力条件下洞室的纵轴线尽量与上述水平投影方向呈较小夹角甚至重合的方向进行布置,可有效地提高洞室纵向压缩效应,减小洞室横向剪切变形效应,以充分利用高地应力引起的高围压增加围岩自承载能力,同时限制围岩横向剪切变形破坏,实现提升洞室围岩稳定状态和降低开挖支护工程投资的目的。

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