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专利摘要

本发明的目的是改善经常发生流动偏差的区域中的流动偏差,并且本发明说明了这样一种技术:利用该技术,挡板之间的距离构造成根据偏差发生的区域中的速度的不同而变化,从而改善已穿过挡板的流体的流动偏差。

专利状态

基础信息

专利号
CN201880004941.9
申请日
2018-01-17
公开日
2019-07-26
公开号
CN110062849A
主分类号
/F/F15/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
流体压力执行机构;一般液压技术和气动技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

李俊荣 崔峻源 刘昶埙 林艺勋

申请人

株式会社LG化学

申请人地址

韩国首尔

专利摘要

本发明的目的是改善经常发生流动偏差的区域中的流动偏差,并且本发明说明了这样一种技术:利用该技术,挡板之间的距离构造成根据偏差发生的区域中的速度的不同而变化,从而改善已穿过挡板的流体的流动偏差。

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