本发明涉及流体导流技术领域，公开了一种实现液态工质均匀铺展的装置，包括底座、分别与底座的两端贯通的入管和排出管、所述底座上与入管贯通连接的一端设有与入管贯通的入口液池、均匀开设在底座顶面上的微槽，所述入口液池的顶面通过螺栓螺纹固定有盖板，所述盖板全覆盖入口液池，并且覆盖一部分微槽。
本发明通过微槽道对液体或者金属粉末起导流作用，有助于液体或者金属粉末在底座的表面形成均匀铺展和稳定流动，同时漏斗形出口可以加快液体或者金属粉末流出装置，以免在装置内部形成淤积和堵塞，改变了传统的通过平板导流的结构不具备分流功能，并且流体以及金属粉末流入平板表面之后不能均匀铺展，以致无法控制形成的液膜厚度的弊端。

王增辉 雷天扬 倪明玖

中国科学院大学

100043 北京市石景山区玉泉路19号（甲）

本发明涉及流体导流技术领域，公开了一种实现液态工质均匀铺展的装置，包括底座、分别与底座的两端贯通的入管和排出管、所述底座上与入管贯通连接的一端设有与入管贯通的入口液池、均匀开设在底座顶面上的微槽，所述入口液池的顶面通过螺栓螺纹固定有盖板，所述盖板全覆盖入口液池，并且覆盖一部分微槽。
本发明通过微槽道对液体或者金属粉末起导流作用，有助于液体或者金属粉末在底座的表面形成均匀铺展和稳定流动，同时漏斗形出口可以加快液体或者金属粉末流出装置，以免在装置内部形成淤积和堵塞，改变了传统的通过平板导流的结构不具备分流功能，并且流体以及金属粉末流入平板表面之后不能均匀铺展，以致无法控制形成的液膜厚度的弊端。