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专利摘要

一种密封结构和质量流量控制器。
密封结构包括第一挤压结构、金属密封圈、第二挤压结构;第一挤压结构包括环形的结构槽和第一挤压部,结构槽设于流量传感器的第一密封面上,第一挤压部沿结构槽的内周壁设于结构槽的径向内侧,且从结构槽的槽底向结构槽的开放端凸出;第二挤压结构包括环形的定位槽和第二挤压部,定位槽设于流体通道的第二密封面上,第二挤压部设于定位槽内且凸出于定位槽的槽底;金属密封圈设于第一挤压部和第二挤压部之间,以通过第一挤压部和第二挤压部的挤压实现密封,其中,沿垂直于第二密封面的方向,第二挤压部与第二密封面之间的距离为h,金属密封圈的厚度H大于距离h。
该密封结构的结构简单,便于装配。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910567273.7
申请日
2019-06-27
公开日
2019-11-26
公开号
CN110500406A
主分类号
/F/F17/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
气体或液体的贮存或分配
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

苏乾益 何漫丽 常祝

申请人

北京七星华创流量计有限公司

申请人地址

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号1幢506室

专利摘要

一种密封结构和质量流量控制器。
密封结构包括第一挤压结构、金属密封圈、第二挤压结构;第一挤压结构包括环形的结构槽和第一挤压部,结构槽设于流量传感器的第一密封面上,第一挤压部沿结构槽的内周壁设于结构槽的径向内侧,且从结构槽的槽底向结构槽的开放端凸出;第二挤压结构包括环形的定位槽和第二挤压部,定位槽设于流体通道的第二密封面上,第二挤压部设于定位槽内且凸出于定位槽的槽底;金属密封圈设于第一挤压部和第二挤压部之间,以通过第一挤压部和第二挤压部的挤压实现密封,其中,沿垂直于第二密封面的方向,第二挤压部与第二密封面之间的距离为h,金属密封圈的厚度H大于距离h。
该密封结构的结构简单,便于装配。

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