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专利摘要

本发明描述一种流体供应封装,所述流体供应封装包含压力调节式流体储存与施配容器,所述压力调节式流体储存与施配容器包括流体施配流动路径及吸附剂,所述吸附剂安置于所述流动路径中或与所述流动路径流体连通以从所述流动路径可逆地吸附流体,从而实现从所述容器施配的流体的压力稳定。
本发明揭示一种通过以下方式而在通过流体供应封装中的流体流动路径施配流体期间使流体压力稳定的对应方法:使所述流体流动路径中的所述流体与吸附剂接触,所述流体可在所述施配流体期间可逆地吸附于所述吸附剂上。
此种使用压力管理吸附剂的方法在流体施配期间使流体压力稳定,且对抗可在流体施配的起始或后续执行期间发生的压力振荡。

专利状态

基础信息

专利号
CN201580038206.6
申请日
2015-06-11
公开日
2017-03-22
公开号
CN106536377A
主分类号
/F/F17/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
气体或液体的贮存或分配
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

克丽丝·斯坎内尔

申请人

恩特格里斯公司

申请人地址

美国马萨诸塞州

专利摘要

本发明描述一种流体供应封装,所述流体供应封装包含压力调节式流体储存与施配容器,所述压力调节式流体储存与施配容器包括流体施配流动路径及吸附剂,所述吸附剂安置于所述流动路径中或与所述流动路径流体连通以从所述流动路径可逆地吸附流体,从而实现从所述容器施配的流体的压力稳定。
本发明揭示一种通过以下方式而在通过流体供应封装中的流体流动路径施配流体期间使流体压力稳定的对应方法:使所述流体流动路径中的所述流体与吸附剂接触,所述流体可在所述施配流体期间可逆地吸附于所述吸附剂上。
此种使用压力管理吸附剂的方法在流体施配期间使流体压力稳定,且对抗可在流体施配的起始或后续执行期间发生的压力振荡。

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