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专利摘要

本发明提供安全性优异的发光装置。
本发明的一个实施方式的发光装置具备:基体;激光元件,其配置于基体的上表面,并向侧方发出激光;荧光构件,其配置于基体的上表面,并通过被照射激光而发出荧光;第一光学构件,其配置于基体的上表面,具有供激光入射的入射侧侧面和供激光出射的出射侧侧面,第一光学构件将激光的行进方向改变为下方从而使透过第一光学构件后的激光照射于荧光构件的上表面;以及盖,其具备在荧光构件的上方具有沿上下方向贯通的贯通孔的遮光构件、及堵塞贯通孔的透光构件,且盖覆盖激光元件、荧光构件及第一光学构件,遮光构件具有突出部,突出部以与第一光学构件的出射侧侧面对置的方式比第一光学构件的上端更向下方突出。

专利状态

基础信息

专利号
CN201710760021.7
申请日
2017-08-29
公开日
2018-03-13
公开号
CN107795866A
主分类号
/F/F21/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
照明
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

清田征尔 冈久英一郎

申请人

日亚化学工业株式会社

申请人地址

日本德岛县

专利摘要

本发明提供安全性优异的发光装置。
本发明的一个实施方式的发光装置具备:基体;激光元件,其配置于基体的上表面,并向侧方发出激光;荧光构件,其配置于基体的上表面,并通过被照射激光而发出荧光;第一光学构件,其配置于基体的上表面,具有供激光入射的入射侧侧面和供激光出射的出射侧侧面,第一光学构件将激光的行进方向改变为下方从而使透过第一光学构件后的激光照射于荧光构件的上表面;以及盖,其具备在荧光构件的上方具有沿上下方向贯通的贯通孔的遮光构件、及堵塞贯通孔的透光构件,且盖覆盖激光元件、荧光构件及第一光学构件,遮光构件具有突出部,突出部以与第一光学构件的出射侧侧面对置的方式比第一光学构件的上端更向下方突出。

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