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专利摘要

本发明的课题在于提供一种能够抑制荧光体的劣化、能够抑制由基材膜的缺损引起的亮点的产生及亮度的降低的含荧光体膜及背光单元。
本发明通过如下含荧光体膜来解决课题,该含荧光体膜具有:含荧光体层,具备具有氧不透过性且形成有分散的凹部的树脂层及配置于凹部的荧光区域;及第1基材膜和第2基材膜,该第1基材膜层叠于含荧光体层的其中一个面上,该第2基材膜层叠于相反面上,荧光区域包含暴露在氧中便会与氧反应而劣化的荧光体和粘合剂,第1基材膜包含支撑膜和设置在与含荧光体层对置的面侧的无机层,就树脂层而言,弹性模量为0.5~10GPa、凹部的底部的厚度为0.1~20μm。

专利状态

基础信息

专利号
CN201780068835.2
申请日
2017-11-06
公开日
2019-07-02
公开号
CN109964155A
主分类号
/F/F21/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
照明
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

大场达也 远山浩史 柿下健一

申请人

富士胶片株式会社

申请人地址

日本东京

专利摘要

本发明的课题在于提供一种能够抑制荧光体的劣化、能够抑制由基材膜的缺损引起的亮点的产生及亮度的降低的含荧光体膜及背光单元。
本发明通过如下含荧光体膜来解决课题,该含荧光体膜具有:含荧光体层,具备具有氧不透过性且形成有分散的凹部的树脂层及配置于凹部的荧光区域;及第1基材膜和第2基材膜,该第1基材膜层叠于含荧光体层的其中一个面上,该第2基材膜层叠于相反面上,荧光区域包含暴露在氧中便会与氧反应而劣化的荧光体和粘合剂,第1基材膜包含支撑膜和设置在与含荧光体层对置的面侧的无机层,就树脂层而言,弹性模量为0.5~10GPa、凹部的底部的厚度为0.1~20μm。

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