本发明公开了一种代替蓝宝石衬底晶片酸洗的清洗工艺，包括先用刷洗去除表面大颗粒，再用乳化剂浸泡控制晶片表面的吸附状态，然后用清洗剂去除晶片表面的脏污，再用含有催化剂的臭氧水清洗去除晶片表面的有机物和金属离子，之后使用清洗剂去除催化剂，最后置于异丙醇内去除晶片表面的亚微米颗粒，降低表面金属离子含量和避免水痕缺陷的产生，同时也避免了传统加热干燥过程中产生的静电，保证晶片表面不被二次污染。
本发明的清洗工艺在去除了酸洗工艺的同时，能够提高去除有机物、金属污染物和微粒的效率。

高长有 刘敏 陈志敏 张顼

江苏京晶光电科技有限公司

213300 江苏省常州市溧阳市上黄科技创业园飞跃路8号

本发明公开了一种代替蓝宝石衬底晶片酸洗的清洗工艺，包括先用刷洗去除表面大颗粒，再用乳化剂浸泡控制晶片表面的吸附状态，然后用清洗剂去除晶片表面的脏污，再用含有催化剂的臭氧水清洗去除晶片表面的有机物和金属离子，之后使用清洗剂去除催化剂，最后置于异丙醇内去除晶片表面的亚微米颗粒，降低表面金属离子含量和避免水痕缺陷的产生，同时也避免了传统加热干燥过程中产生的静电，保证晶片表面不被二次污染。
本发明的清洗工艺在去除了酸洗工艺的同时，能够提高去除有机物、金属污染物和微粒的效率。