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专利摘要

本发明公开了一种电子元件用超声清洗装置,涉及电子元件清洗技术领域,包括底板,底板的上表面固定安装有清洗箱,清洗箱的内部底面固定安装有旋转电机,旋转电机的顶部活动连接有旋转盘,旋转盘的顶部固定安装有筛箱,清洗箱的内部两侧均固定安装有电动推杆,电动推杆的底部均固定安装有超声波发生器。
该电子元件用超声清洗装置,设置旋转电机、旋转盘和筛箱,既可以带动筛箱的电子元件整体进行转动,又可以带动清洗箱内部的清洗液进行搅动,提升清理效果设置电动推杆、超声波发生器、滑块和滑槽,可以带动超声波发生器进行上下移动,超声波发生器呈对称设置,可以对电子元件的进行全面清理,清理效果好。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011235138.1
申请日
2020-11-08
公开日
2021-02-09
公开号
CN112337890A
主分类号
/F/F26/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
干燥
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

沈杰

申请人

杭州宽福科技有限公司

申请人地址

310012 浙江省杭州市西湖区天目山路248号华鸿大厦2号楼6层250号

专利摘要

本发明公开了一种电子元件用超声清洗装置,涉及电子元件清洗技术领域,包括底板,底板的上表面固定安装有清洗箱,清洗箱的内部底面固定安装有旋转电机,旋转电机的顶部活动连接有旋转盘,旋转盘的顶部固定安装有筛箱,清洗箱的内部两侧均固定安装有电动推杆,电动推杆的底部均固定安装有超声波发生器。
该电子元件用超声清洗装置,设置旋转电机、旋转盘和筛箱,既可以带动筛箱的电子元件整体进行转动,又可以带动清洗箱内部的清洗液进行搅动,提升清理效果设置电动推杆、超声波发生器、滑块和滑槽,可以带动超声波发生器进行上下移动,超声波发生器呈对称设置,可以对电子元件的进行全面清理,清理效果好。

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