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专利摘要

本实用新型公开了一种陶瓷流延加工用烘干装置,包括箱体、设置于箱体内的烘干部和贯穿于烘干部设置的输送带,所述箱体包括一进料口和一出料口,所述进料口设置于输送带上方,所述出料口设置于输送带下方,所述烘干区包括由带有通道的隔板分隔开来的第一烘干区、第二烘干区和第三烘干区,所述第一烘干区包括设置在上部的热风机和设置在下部的出风管,所述第二烘干区包括均匀布置于第二烘干区下部的雾化喷嘴和设置于上部的储液箱,所述第三烘干区包括设置于底部的进气管和围绕输送带设置的螺旋通道,所述进气管与所述出风管相连通,所述螺旋通道靠近出料口的一端设置有水分检测仪。
保证了陶瓷膜的烘干质量,同时实现了自动化生产,生产效率高。

专利状态

基础信息

专利号
CN202020844180.2
申请日
2020-05-20
公开日
2021-02-02
公开号
CN212457620U
主分类号
/F/F26/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
干燥
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

曹建平 曹培福 刘平 彭育辉

申请人

湖南省新化县鑫星电子陶瓷有限责任公司

申请人地址

417600 湖南省娄底市新化县桑梓镇桑梓村三组

专利摘要

本实用新型公开了一种陶瓷流延加工用烘干装置,包括箱体、设置于箱体内的烘干部和贯穿于烘干部设置的输送带,所述箱体包括一进料口和一出料口,所述进料口设置于输送带上方,所述出料口设置于输送带下方,所述烘干区包括由带有通道的隔板分隔开来的第一烘干区、第二烘干区和第三烘干区,所述第一烘干区包括设置在上部的热风机和设置在下部的出风管,所述第二烘干区包括均匀布置于第二烘干区下部的雾化喷嘴和设置于上部的储液箱,所述第三烘干区包括设置于底部的进气管和围绕输送带设置的螺旋通道,所述进气管与所述出风管相连通,所述螺旋通道靠近出料口的一端设置有水分检测仪。
保证了陶瓷膜的烘干质量,同时实现了自动化生产,生产效率高。

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