用于原子层沉积工艺的进气系统和控制方法

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本发明实施例公开了一种用于原子层沉积工艺的进气系统和控制方法，其中的进气系统包括：连通匀流腔与反应腔体的第三管路，用于在吹扫阶段将匀流腔中的第一反应前驱物或第二反应前驱物经由反应腔体输送入前级真空管线。本发明的用于原子层沉积工艺的进气系统和控制方法，能够有效地隔离两种不同反应前驱物且实现快速交替切换，可以稳定控制反应前驱物的流量，能够稳定控制反应腔体内部的工艺压力，可以有效地降低工艺过程中因压力或流量波动造成的颗粒的产生，能够正向提高ALD成膜的均匀性，提高成膜良率。