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光学反射镜、光学反射镜系统及曝光机

申请号: CN201811005868.5
申请人: 京东方科技集团股份有限公司; 成都京东方光电科技有限公司
申请日期: 2018年8月30日

摘要文本

本发明公开一种光学反射镜、光学反射镜系统及曝光机,涉及光学反射镜技术领域,以解决如何调节光学反射镜表面曲率的问题。其中,所述光学反射镜包括:基座;安装于所述基座上的磁致伸缩位移计阵列,所述磁致伸缩位移计能够在电流的控制下发生伸缩运动;设置于所述磁致伸缩位移计阵列上的柔性光学反射镜。本发明提供的光学反射镜用于调节光学反射镜表面曲率,从而使经光学反射镜反射后的光线符合实际需求。 来源:马 克 团 队

专利详细信息

项目 内容
专利名称 光学反射镜、光学反射镜系统及曝光机
专利类型 发明授权
申请号 CN201811005868.5
申请日 2018年8月30日
公告号 CN108983414B
公开日 2024年1月30日
IPC主分类号 G02B26/08
权利人 京东方科技集团股份有限公司; 成都京东方光电科技有限公司
发明人 向琛; 陈轶; 徐钟国
地址 北京市朝阳区酒仙桥路10号; 四川省成都市高新区(西区)合作路1188号

专利主权项内容

1.一种光学反射镜,其特征在于,所述光学反射镜包括:基座;安装于所述基座上的磁致伸缩位移计阵列,所述磁致伸缩位移计能够在电压或电流的控制下发生伸缩运动;设置于所述磁致伸缩位移计阵列上的柔性光学反射镜;所述柔性光学反射镜在所述基座上的正投影,位于所述磁致伸缩位移计阵列的外周侧边界在所述基座上的正投影的范围内;其中,所述基座包括:位移计安装基板,所述位移计安装基板的一侧设置有多个位移计安装孔,所述磁致伸缩位移计阵列所包括的多个磁致伸缩位移计一一对应地安装于所述多个位移计安装孔内;与所述多个位移计安装孔一一配合的多个固定盖板,每个所述固定盖板设有第一通孔,所述多个磁致伸缩位移计的端部一一对应地穿过所述多个固定盖板的第一通孔;设置于所述位移计安装基板的另一侧的温控基板,用于使所述磁致伸缩位移计的温度保持在设定温度范围内;所述磁致伸缩位移计包括:磁场屏蔽外壳,所述磁场屏蔽外壳的顶面设有第二通孔;设置于所述磁场屏蔽外壳内部的位移执行部件,所述位移执行部件的一端穿入所述第二通孔;覆盖在所述第二通孔外侧的第一薄膜,所述第一薄膜具有柔性,且能够屏蔽磁场;设置于所述第一薄膜背向所述位移执行部件一侧的第一位移传导柱,所述第一位移传导柱与所述第一薄膜粘贴连接;其中,所述位移执行部件包括:磁致伸缩体,所述磁致伸缩体包括多个磁致伸缩柱,每个所述磁致伸缩柱表面包覆绝缘材料,以使所述多个磁致伸缩柱彼此绝缘;螺旋套设在所述磁致伸缩体周向外侧的螺线管;环状的磁通循环部件,由多个环状的磁导片和多个环状的绝缘片交替层叠形成;所述磁通循环部件包括相对的第一位置和第二位置,所述磁通循环部件在所述第二位置处设有第三通孔,且所述第三通孔与所述第二通孔相对应;所述磁致伸缩体设置于所述磁通循环部件的环状中空区域内,所述磁致伸缩体的一端穿入所述第三通孔,所述磁致伸缩体的另一端与所述第一位置通过导体连接;设置于所述第三通孔内的第二位移传导柱,用于与所述磁通循环部件形成磁通回路,所述第二位移传导柱的一端与所述磁致伸缩体的对应所述第三通孔的端部相接触;覆盖于所述第三通孔外侧的第二薄膜,所述第二薄膜具有柔性,且能够防止漏磁;设置于所述第二薄膜背向所述磁通循环部件一侧的第三位移传导柱,所述第三位移传导柱穿入所述第二通孔;所述柔性光学反射镜与各所述磁致伸缩位移计的顶端粘接连接;或者,各所述磁致伸缩位移计的顶部设有吸盘,所述柔性光学反射镜通过所述吸盘与各所述磁致伸缩位移计的顶端吸附连接。