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具有自适应性的抛光头
摘要文本
本发明公开了一种具有自适应性的抛光头, 包括:枢轴组件、基体及夹片组件,枢轴组件由轴体及盘体组成,基体上设置有适于与轴体配合的轴孔,夹片组件上设置有适于与盘体配合的凹槽;枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置,枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内;盘体的外周壁设有环形凸缘,环形凸缘的外周面与凹槽的内周壁线接触。根据本发明的具有自适应性的抛光头,能够保证抛光头的定心功能,提高抛光头稳定性和自适应性。
申请人信息
- 申请人:清华大学; 华海清科股份有限公司
- 申请人地址:100084 北京市海淀区清华园
- 发明人: 清华大学; 华海清科股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 具有自适应性的抛光头 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201810002749.8 |
| 申请日 | 2018年1月2日 |
| 公告号 | CN108044484B |
| 公开日 | 2024年2月13日 |
| IPC主分类号 | B24B29/02 |
| 权利人 | 清华大学; 华海清科股份有限公司 |
| 发明人 | 赵德文; 路新春; 陈祥玉 |
| 地址 | 北京市海淀区清华园; 天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道11号 |
专利主权项内容
1.一种具有自适应性的抛光头,包括枢轴组件、基体及夹片组件,所述枢轴组件由轴体及盘体组成,所述基体上设置有适于与所述轴体配合的轴孔,所述夹片组件上设置有适于与所述盘体配合的凹槽;所述枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置,枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内;其特征在于,所述盘体的外周壁设有环形凸缘,所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁线接触;所述环形凸缘的上方和所述环形凸缘的下方分别设有吸振环,所述环形凸缘与所述吸振环配合的一侧上设有通孔;所述吸振环与所述凹槽的内周壁之间设置有间隙;还包括压环,所述压环形成为环形状且其设在上吸振环的上方,并至少一部分覆盖上吸振环且另一部分与夹片组件连接固定。