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一种基于二硒化钨的微型压阻式应力传感器

申请号: CN201811326761.0
申请人: 清华大学
申请日期: 2018年11月8日

摘要文本

一种基于二硒化钨的微型压阻式应力传感器,结构从上到下依次为氮化硼层、金属电极、二硒化钨层和柔性基底;二硒化钨层两端与金属电极相连;二硒化钨层的上表面被氮化硼层完全覆盖;所述二硒化钨层为二维材料,即厚度方向仅有单层原子或少数几层原子,少数几层为1‑10层;本发明采用二硒化钨作为核心敏感材料,利用二硒化钨对应力敏感的特性(压阻特性)进行应力检测,氮化硼作为保护层,使应力传感器的抗弯折能力强、具有较大的量程、灵敏度高、体积小、易加工、长期稳定性好等特点。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种基于二硒化钨的微型压阻式应力传感器
专利类型 发明授权
申请号 CN201811326761.0
申请日 2018年11月8日
公告号 CN109297622B
公开日 2024年2月2日
IPC主分类号 G01L1/18
权利人 清华大学
发明人 李鹏; 耿策洋
地址 北京市海淀区清华大学

专利主权项内容

1.一种基于二硒化钨的微型压阻式应力传感器,其特征在于,用于检测关节部位的运动情况,结构从上到下依次为氮化硼层(1-1)、金属电极(1-2)、二硒化钨层(1-3)和柔性基底(1-4);二硒化钨层(1-3)两端与金属电极(1-2)相连;二硒化钨层(1-3)的上表面被氮化硼层(1-1)完全覆盖;所述二硒化钨层(1-3)为二维材料,即厚度方向仅有单层原子或少数几层原子,所述的少数几层为1-10层;所述金属电极(1-2)材料选用Au、Ag、Cu、Al、Pt中的任意一种,厚度为20-200纳米。