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屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统
摘要文本
本发明公开了一种屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统，该屏蔽帘防护装置包括：屏蔽帘轨道，为回转轨道；两个以上的屏蔽帘组件在屏蔽帘轨道的延伸方向上相互间隔设置于屏蔽帘轨道，并能够沿屏蔽帘轨道移动；所述屏蔽帘组件包括卷帘轴和连接在卷帘轴上的屏蔽帘，卷帘轴能够自转，以使屏蔽帘在卷帘轴上能够在收卷状态与展开状态之间切换。本发明公开的屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统，能够消除待测物品进出检测设备的相对阻力，减少屏蔽帘与待测物品之间的摩擦，并提高屏蔽效果，同时实现屏蔽帘的有效固定，显著的降低加工难度，提高加工效率，且避免屏蔽帘发生下垂，进一步提高屏蔽效果，以及能够提高检测设备的安全性能和使用寿命。
申请人信息
- 申请人:同方威视技术股份有限公司
- 申请人地址:100084 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 发明人: 同方威视技术股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201810438310.X |
| 申请日 | 2018年5月9日 |
| 公告号 | CN108447577B |
| 公开日 | 2024年1月23日 |
| IPC主分类号 | G21F3/00 |
| 权利人 | 同方威视技术股份有限公司 |
| 发明人 | 张龙; 洪明志; 梁晋宁; 黄清萍; 张丽 |
| 地址 | 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层 |
专利主权项内容
微信公众号马克 数据网 1.一种用于检测系统的屏蔽帘防护装置，其特征在于，包括：屏蔽帘轨道，为回转轨道，所述屏蔽帘轨道至少具有相继分布的第一运行段和第二运行段；屏蔽帘组件，两个以上的所述屏蔽帘组件在所述屏蔽帘轨道的延伸方向上相互间隔设置于所述屏蔽帘轨道，并能够沿所述屏蔽帘轨道移动；所述屏蔽帘组件包括卷帘轴和连接在所述卷帘轴上的屏蔽帘，所述卷帘轴能够自转，以使所述屏蔽帘在所述卷帘轴上能够在收卷状态与展开状态之间切换；其中，在所述第一运行段至少包括收卷段，将所述屏蔽帘卷绕于所述卷帘轴上，在所述第二运行段至少包括放卷段，将所述屏蔽帘从所述卷帘轴上伸展开而由所述收卷状态切换为所述展开状态；所述第二运行段进一步包括屏蔽帘工作区段，所述放卷段、所述屏蔽帘工作区段及所述收卷段相继分布，且所述屏蔽帘工作区段分别与所述放卷段及所述收卷段呈预设角度，所述预设角度为90度～180度。