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密封装置

申请号: CN201610964085.4
申请人: 江南阀门有限公司
申请日期: 2016年11月4日

摘要文本

一种密封装置,包括上密封面和下密封面,所述密封装置还包括密封填料,所述密封填料设置在所述上密封面和所述下密封面之间;其中,所述上密封面包括填料腔侧壁和底壁,所述填料腔侧壁从所述上密封面伸出,其间形成用于容纳密封填料的填料腔;所述下密封面包括填料容纳沟槽侧壁和填料容纳沟槽底壁,其间形成用于容纳密封填料的填料沟槽;所述上密封面的填料腔与所述下密封面的填料沟槽配合,其间形成容纳所述密封填料的整体腔室,所述整体腔室包括内环形密封面、外环形密封面以及上、下密封底壁面。藉由该装置,即使密封面存在一定的缝隙,介质亦无法直接穿越缝隙,从而提高密封的稳定性、可靠性。。详见官网:

专利详细信息

项目 内容
专利名称 密封装置
专利类型 发明授权
申请号 CN201610964085.4
申请日 2016年11月4日
公告号 CN108019511B
公开日 2024年3月29日
IPC主分类号 F16J15/06
权利人 江南阀门有限公司
发明人 黄子龙; 黄作兴; 张耀平; 杨顺为; 张志敏
地址 浙江省温州市龙湾区机场大道616号

专利主权项内容

马 克 数 据 网 1.一种密封装置,包括上密封面和下密封面,所述密封装置还包括密封填料,所述密封填料设置在所述上密封面和所述下密封面之间;所述上密封面包括填料腔侧壁和填料腔底壁,所述填料腔侧壁从所述上密封面伸出,所述填料腔侧壁和所述填料腔底壁间形成用于容纳密封填料的填料腔;所述下密封面包括填料容纳沟槽侧壁和填料容纳沟槽底壁,所述填料容纳沟槽侧壁和所述填料容纳沟槽底壁间形成用于容纳密封填料的填料容纳沟槽;所述上密封面的所述填料腔与所述下密封面的所述填料容纳沟槽配合,其间形成容纳所述密封填料的整体腔室,所述整体腔室构成内环形密封面、外环形密封面以及上、下密封底壁面;所述上密封面的所述填料腔侧壁和所述填料腔底壁形成第一介质渗漏路径,所述第一介质渗漏路径呈大致“弓”字线;其特征在于:所述下密封面的所述填料容纳沟槽底壁上还设有隔离突起;所述下密封面的所述填料容纳沟槽侧壁和所述填料容纳沟槽底壁以及所述填料容纳沟槽底壁的所述隔离突起一起形成第二介质渗漏路径,所述第二介质渗漏路径呈大致“巨”字线。