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双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池及制作方法

申请号: CN201710416600.X
申请人: 通威太阳能(成都)有限公司
申请日期: 2017年6月6日

摘要文本

本发明提供一种双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池及制作方法,包括:n型硅衬底;窗口层,包括具有宽光学带隙的本征非晶硅或者微晶硅以及n型掺杂的非晶硅或者微晶硅;背场层,包括本征非晶硅或者微晶硅以及p型掺杂的非晶硅或者微晶硅;第一透明导电薄膜;第二透明导电薄膜;第一电极;以及第二电极。本发明的双面受光太阳电池使用具有宽光学带隙、低缺陷密度的本征非晶硅或者微晶硅以及n型非晶硅或者微晶硅薄膜叠层作为窗口层,有效降低窗口层的缺陷密度,减少对太阳光的吸收损失,提高太阳电池和光伏组件的光电转换效率和发电功率输出。与现有的HIT电池相比,本发明具有更宽的工艺窗口,有利于大批量生产的工艺控制和管理。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池及制作方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201710416600.X
申请日 2017年6月6日
公告号 CN109004053B
公开日 2024年3月29日
IPC主分类号 H01L31/072
权利人 通威太阳能(成都)有限公司
发明人 刘正新; 孟凡英; 张丽平; 石建华; 俞健; 刘金宁; 刘毓成
地址 四川省成都市双流区西南航空港经济开发区工业集中发展区六期内

专利主权项内容

1.一种双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池,其特征在于,所述太阳电池由以下结构组成:n型晶体硅衬底,其具有相对的第一表面及第二表面;窗口层,形成于所述n型晶体硅衬底的第一表面,其包括具有宽光学带隙的本征非晶硅或者微晶硅薄膜以及n型掺杂的非晶硅或者微晶硅薄膜,所述窗口层中的本征非晶硅或者微晶硅薄膜位于所述n型晶体硅衬底与所述n型掺杂的非晶硅或者微晶硅薄膜之间;所述n型掺杂的非晶硅或者微晶硅薄膜中掺入有碳原子,形成非晶或者微晶硅碳薄膜;背场层,形成于所述n型晶体硅衬底的第二表面,其包括本征非晶硅或者微晶硅薄膜以及p型掺杂的非晶硅或者微晶硅薄膜,所述背场层的本征非晶硅或者微晶硅薄膜位于所述n型晶体硅衬底与所述p型掺杂的非晶硅或者微晶硅薄膜之间;所述窗口层和所述背场层中的本征非晶硅或者微晶硅中掺入有氧原子形成硅氧薄膜;第一透明导电薄膜,形成于所述窗口层表面;第二透明导电薄膜,形成于所述背场层表面;第一电极,制作于所述第一透明导电薄膜上;第二电极,制作于所述第二透明导电薄膜上。