一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置

专利主权项内容

1.一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置，其特征在于：包括腔体、二维移动平台，所述二维移动平台设置在腔体内并沿水平导轨和竖直导轨进行左右和上下移动，所述二维移动平台上方还设置有靶台，靶台随二维移动平台移动，所述腔体上方设有盖板，所述盖板可上下移动；所述盖板包括进样舱舱盖、与进样舱舱盖相配合的舱盖基座、安装在舱盖基座下方与舱盖基座匹配的进样舱驱动齿轮、与进样舱驱动齿轮连接的齿轮驱动电机，所述舱盖基座上方还设有进气阀、出气阀，所述进气阀、出气阀和进样舱舱盖通过一个三通以及气管连接到一起，所述盖板表面还设有与靶台相适应的盖板凹槽；所述进样舱驱动齿轮上有三个相同的凹槽，每个凹槽占据圆的120度，且凹槽的深度沿法兰的圆周方向逐渐变化；所述二维移动平台带动靶台按照设定的位置移动到盖板下方，舱盖、舱盖基座和靶台形成进样舱，所述进样舱连接分子泵，所述分子泵还连接机械泵。