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无焊缝式水冷坩埚

申请号: CN201710693745.4
申请人: 核工业理化工程研究院; 沈阳腾鳌真空技术有限公司
申请日期: 2017年8月14日

摘要文本

本发明公开了一种无焊缝式水冷坩埚,包括,坩埚,其顶部形成有物料池,底部向内凹陷地形成有水槽,座板,与所述的坩埚底部固定连接并将所述的水槽下端口封闭,所述的座板与所述的水槽的端部对应处设置有进水孔和出水孔;其中,在所述的水槽内固定设置有导流立柱,所述的导流立柱上端或下端形成有过流孔以使所述的水槽与过流孔配合构成上下迂回式水道。本发明的水冷坩埚,在坩埚底部设置水槽且该水槽由座板将水槽的下端面封闭形成腔式水道,同时在水道内设置导流立柱,该导流立柱将水道阻断只留有过流孔,相邻的两导流立柱的过流孔成上下交错配置,即在坩埚内形成上下迂回式单向水道,通过水流在单向水道的流动实现降温效果。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 无焊缝式水冷坩埚
专利类型 发明授权
申请号 CN201710693745.4
申请日 2017年8月14日
公告号 CN107328239B
公开日 2024年1月26日
IPC主分类号 F27B14/10
权利人 核工业理化工程研究院; 沈阳腾鳌真空技术有限公司
发明人 许文强; 慈连鳌; 张晓卫; 赵国华; 罗立平; 高学林
地址 天津市河东区津塘路168号; 辽宁省沈阳市苏家屯区瑰香街83-5-3号

专利主权项内容

1.一种无焊缝式水冷坩埚,其特征在于,包括,坩埚,其顶部形成有物料池,底部向内凹陷地形成有水槽,座板,与所述的坩埚底部固定连接并将所述的水槽下端口封闭,所述的座板与所述的水槽的端部对应处设置有进水孔和出水孔;其中,在所述的水槽内固定设置有导流立柱,所述的导流立柱上端或下端形成有过流孔以使所述的水槽与过流孔配合构成上下迂回式水道,所述的水槽包括设置物料池底部的短水槽和设置在物料池周侧的长水槽,所述的短水槽和长水槽通过连接槽导通,所述的短水槽和长水槽分别等宽等深设置且深度方向均与坩埚的轴向平行。。来源:马 克 数 据 网