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用于三维曲面纳米级压印的方法、装置及模具制备方法
摘要文本
本发明提供了一种用于三维曲面纳米级压印的方法、装置及模具制备方法，涉及纳米级压印。所述纳米级压印装置包括：母模板，其顶部形成有设定凹凸形状；基底，其顶部形成有被压印三维曲面；PDMS胶层，其底面与所述母模板顶部固化后覆盖于所述被压印三维曲面；保持机构，通过与覆盖于所述被压印三维曲面的所述PDMS胶层对接固化，使所述PDMS胶层底面固化为将所述设定凹凸形状压印于所述被压印三维曲面上的压印模具。从而实现将设定凹凸形状压印在被压印三维曲面上，也就是实现在曲面基底上微结构的压印。
申请人信息
- 申请人:青岛天仁微纳科技有限责任公司
- 申请人地址:266000 山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
- 发明人: 青岛天仁微纳科技有限责任公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 用于三维曲面纳米级压印的方法、装置及模具制备方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201711446298.9 |
| 申请日 | 2017年12月27日 |
| 公告号 | CN108008599B |
| 公开日 | 2024年1月26日 |
| IPC主分类号 | G03F7/00 |
| 权利人 | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
| 发明人 | 冀然 |
| 地址 | 山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房 |
专利主权项内容
1.一种用于三维曲面的纳米级压印装置，其特征在于，包括：母模板，其顶部形成有设定凹凸形状；基底，其顶部形成有被压印三维曲面；PDMS胶层，其底面与所述母模板顶部固化后覆盖于所述被压印三维曲面；保持机构，通过与覆盖于所述被压印三维曲面的所述PDMS胶层对接固化，使所述PDMS胶层底面固化为将所述设定凹凸形状压印于所述被压印三维曲面上的压印模具，在母模板顶面涂抹一层抗粘剂，在抗粘剂上涂抹液态PDMS胶以形成PDMS胶层；液态PDMS胶在母模板顶面固化为PDMS胶层的过程中，PDMS胶层的底面形成有与设定凹凸形状对应配合的凹凸结构；将PDMS胶层的底面覆盖于基底上，使凹凸结构与基底的被压印三维曲面对准，将PDMS胶层覆盖于基底上，在PDMS胶层上浇注液态PDMS胶并加热固化，使PDMS胶层底面保持为能够与被压印三维曲面完全贴合的形状。