一种气路分配机构及其分光设备

专利主权项内容

1.一种带有气路分配机构的分光设备，其特征在于，包括基座，气路分配机构，及近于气路分配机构设置且用于检测电子器件的检测机构；其中，所述气路分配机构包括联接气源的正负压集成块，与正负压集成块具有相对运动的承载组件；所述正负压集成块设有若干个与气源联通的气槽；所述气槽包括至少一个负压气槽，至少一个正压气槽；所述承载组件设有与气槽联通的若干个独立气孔；所述的独立气孔通过气槽通入负气压时，工件吸附固定于承载组件；通入正气压时，工件与承载组件分离；所述的负压气槽通过正负压集成块设有的若干个进气孔与气源联通；所述负压气槽、正压气槽均近于承载组件一侧设置；所述正负压集成块固定联接于设有的固定块上，以使与旋转运动的承载组件具有相对运动；所述负压气槽与多个进气孔联通，所述正压气槽与单个进气孔联通；所述的承载组件包括与正负压集成块具有相对运动且用于固定的工件的承载转盘，及与承载转盘同步旋转的透明转盘；所述承载转盘近于透明转盘一侧设有真空腔，且真空腔与所述正负压集成块设有的吸附气孔联通；所述承载转盘的真空腔通入负气压时，透明转盘吸附固定于承载转盘一侧；所述真空腔为圆环形的腔，并且通过径向的凹槽与所述吸附气孔联通；所述的承载转盘与正负压集成块的联接处均布有若干个所述的独立气孔；旋转时，所述独立气孔依次与正负压集成块的负压气槽、正压气槽联通；所述承载转盘外周设有若干个开口朝外且通过下开口槽与独立气孔联通的定位槽；所述承载转盘与透明转盘吸附时，下开口槽与透明转盘形成吸附工件的气孔；所述独立气孔与负压气槽联通时，定位槽的朝内气流将工件往定位槽内侧吸附固定；独立气孔与正压气槽联通时，定位槽的朝外气流将工件与定位槽分离；所述的负压气槽与正压气槽环向间隔布置；所述独立气孔环向均布于负压气槽、正压气槽的环向位置；所述承载转盘与正负压集成块相对运动，以使独立气孔与负压气槽或正压气槽交替接触；所述气路分配机构还包括与正负压集成块联接的控制集成块；所述控制集成块设有若干个用于控制负压气槽或正压气槽通断的电磁阀；每个进气孔都与对应的电磁阀联通，所述电磁阀用于控制相应的进气孔；所述吸附气孔还与所述电磁阀联通，所述电磁阀还用于控制所述吸附气孔；所述气路分配机构的承载转盘与设于基座的主动力件传动联接；所述透明转盘设于承载转盘下方，且透明转盘与基座之间设有升降机构；所述工件为电子器件；所述分光设备还包括用于清洁透明转盘且设置于透明转盘下方的自动擦拭机构；所述透明转盘与承载转盘分离时，自动擦拭机构设有的擦拭动力件带动透明转盘旋转运动，且自动擦拭机构设有的擦拭块对透明转盘进行清洁；所述自动擦拭机构包括固定架，滑动联接于固定架的擦拭组件，所述擦拭组件设有用于擦拭透明转盘的擦拭块，所述擦拭块设有直接与透明转盘接触的刮片，所述刮片与透明转盘运动方向成20°-90°倾斜角；所述擦拭块至少设有二个，且相对设置，擦拭块设于夹持动力件上，以致擦拭块之间可做相向运动；所述擦拭块近于透明转盘表面设有吸灰腔，且吸灰腔设于刮片的倾斜角一侧，吸灰腔与真空气源联通。