阵列基板及其制造方法、液晶显示面板及其制造方法

专利主权项内容

1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括步骤：在基底上形成黑色遮光材料层；在所述黑色遮光材料层上形成金属材料层；在所述金属材料层上形成光阻材料层；利用光罩对所述光阻材料层进行曝光显影以得到图案化光阻材料层；以所述图案化光阻材料层为掩膜对所述金属材料层和所述黑色遮光材料层依序进行湿蚀刻和干蚀刻；以及在所述干蚀刻后去除残余的光阻材料层，以得到黑色遮光层和第一金属层，并在所述黑色遮光层中形成多个黑色遮光块；在所述第一金属层上形成有源材料层；在所述有源材料层上形成第二金属层；在所述第二金属层上形成保护层并在所述保护层中形成接触孔；在所述保护层上形成色阻材料层；在所述色阻材料层上形成像素电极层、并使所述像素电极层通过所述接触孔连接所述第二金属层；其中，所述黑色遮光层包括多个黑色遮光块，并且所述多个黑色遮光块之间存在间隙，所述第二金属层包括数据线，并且所述数据线设置在所述间隙下；其中，所述数据线由金属铬制成；其中，形成所述黑色遮光层和形成所述第一金属层为共用同一道光罩制程。