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消除再生试剂残留的方法
摘要文本
提供了处理其上固定有核酸分子的固体支持物的方法，其中所述固体支持物已用再生试剂进行了处理，所述再生试剂包含可从3’阻断的经标记的核苷酸上除去阻断基团和标记的还原剂，所述方法包括：使用添加了含有二硫键结构的化合物的洗涤溶液处理所述固体支持物。所述固体支持物在用所述洗涤溶液处理后任选地还使用含有聚合酶、3’阻断的经标记的核苷酸和任选地引物的反应溶液进行处理，例如，所述引物含有与所述固体支持物上的每一个核酸分子的至少一部分互补的序列。
申请人信息
- 申请人:深圳华大智造科技有限公司; 完整基因有限公司
- 申请人地址:518083 广东省深圳市盐田区北山工业区综合楼及11栋2楼
- 发明人: 深圳华大智造科技有限公司; 完整基因有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 消除再生试剂残留的方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201780094653.2 |
| 申请日 | 2017年10月20日 |
| 公告号 | CN111051533B |
| 公开日 | 2024年2月2日 |
| IPC主分类号 | C12Q1/6874 |
| 权利人 | 深圳华大智造科技有限公司; 完整基因有限公司 |
| 发明人 | 谢槟; 徐讯; 杨晋; 徐崇钧; 刘二凯; 陈奥; 章文蔚; 德马纳克·斯内扎娜; 卡洛·马修; 拉哈戈泊尔·田西; 马可心; 赵芳; 李计广 |
| 地址 | 广东省深圳市盐田区北山工业区综合楼及11栋2楼; 美国加利福尼亚州 |
专利主权项内容
1.一种消除再生试剂残留的方法，其包括：a.提供其上固定有核酸分子的固体支持物，b.使用再生试剂处理所述固体支持物，所述再生试剂包含还原剂，和c.使用添加了含有二硫键结构的化合物的洗涤溶液处理所述固体支持物；其中在步骤b之前，使用含有测序试剂的一种或多种反应溶液处理所述固体支持物，以在固体支持物上产生代表所述核酸分子的核苷酸序列的信号，并且其中所述再生试剂用来消除固体支持物上的所述信号；其中，所述含有二硫键结构的化合物选自胱胺、胱胺酸、5, 5'-二硫代双(2-硝基苯甲酸)和2-羟乙基二硫化物。 来源：百度马 克 数据网