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相移干涉条纹生成系统及其生成方法
摘要文本
微信公众号马克数据网 本发明提出一种相移干涉条纹生成系统及其生成方法，该生成系统包括可发射线偏振光的光源，可将所述光源发出光线分设形成为参照光与物体光两束光的分光单元，以及可将参照光与物体光合并的合光单元，所述分光单元与所述合光单元之间形成有参照光传输光路以及物体光传输光路，所述合光单元的光线输出端设置有偏振检波器，通过旋转偏振检波器的角度，以产生相移干涉条纹。该生成方法为基于上述生成系统。该发明实现了高速、高精度的四幅相移干涉条纹生成，极大程度上解决了以往相移干涉条纹生成装置低速、高额且精度差的问题，同时由于本发明装置的高速性在一定程度上也解决了由测量环境变动引起的测量不准等恶性问题。
申请人信息
- 申请人:深圳市新先迈科技有限公司
- 申请人地址:518000 广东省深圳市罗湖区笋岗街道田心社区宝安北路3008号宝能中心E栋17层06C
- 发明人: 深圳市新先迈科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 相移干涉条纹生成系统及其生成方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201711240142.5 |
| 申请日 | 2017年11月30日 |
| 公告号 | CN109856943B |
| 公开日 | 2024年2月27日 |
| IPC主分类号 | G03H1/04 |
| 权利人 | 深圳市新先迈科技有限公司 |
| 发明人 | 于綦悦; 王国栋; 张祥光; 李洋 |
| 地址 | 广东省深圳市罗湖区笋岗街道田心社区宝安北路3008号宝能中心E栋17层06C |
专利主权项内容
1.一种相移干涉条纹生成系统，包括可发射线偏振光的光源，可将所述光源发出光线分设形成为参照光与物体光两束光的分光单元，以及可将参照光与物体光合并的合光单元，其特征在于：所述分光单元与所述合光单元之间形成有参照光传输光路以及物体光传输光路，所述合光单元的光线输出端设置有可使偏振方向不同的参照光和物体光发生干涉以形成干涉条纹的偏振检波器，通过旋转偏振检波器的角度，以产生相移干涉条纹；所述偏振检波器包括可将圆偏振光与线偏振光互转的调光单元，以及可透过单一方向偏振光的偏振板，所述调光单元与所述偏振板顺次间隔设置；所述分光单元与所述合光单元均为偏振分光器；所述调光单元为1/4波长板；所述光源与所述分光单元之间设置有1/2波长板，以发出具有一定偏振角的线偏振光。。搜索马 克 数 据 网