一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法
摘要文本
详见官网：www.macrodatas.cn 。一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法。抛光机包括控制箱、机架、校正盘、校正盘托板、校正盘驱动电机、校正盘驱动靠轮、校正盘固定底座、工件环驱动电机、工件环驱动靠轮、工件环、大理石、工件环托板、工件环底座、水盆、校正盘靠轮、电机、下托板、托盘，转盘轴承和出水孔，其中，大理石为中空大理石；本发明还提供了该新型高效热场调控抛光机的抛光方法。采用中空设计的大理石盘，使得原先的抛光液的单向流动变为双向流动，加快了抛光液的流动，这样使得抛光盘表面抛光粉分布均匀，提高了光学元件的表面质量；表面热场分布均匀，减少了抛光过程中的热积聚现象，提高了面形收敛效率，提高加工效率。
申请人信息
- 申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所
- 申请人地址:201800 上海市嘉定区清河路390号
- 发明人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种新型高效热场调控抛光机及其抛光方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201811257375.0 |
| 申请日 | 2018年10月26日 |
| 公告号 | CN109397007B |
| 公开日 | 2024年3月1日 |
| IPC主分类号 | B24B13/00 |
| 权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 发明人 | 徐学科; 吴福林; 曹俊; 杨明红; 顿爱欢; 邵建达 |
| 地址 | 上海市嘉定区清河路390号 |
专利主权项内容
1.一种新型高效热场调控抛光机，包括控制箱(1)、机架(2)、校正盘(3)、校正盘托板(4)、校正盘驱动电机(5)、校正盘驱动靠轮(6)、校正盘固定底座(7)、工件环驱动电机(8)、工件环驱动靠轮(9)、工件环(10)、大理石、工件环托板(12)、工件环底座(13)、水盆(14)、校正盘靠轮(15)、电机(16)、下托板(17)、托盘(18)、转盘轴承(19)、出水孔(20)和圆柱托盘(21)，其特征在于，所述的大理石为中空大理石(11)；所述的机架(2)由正方形的四个顶角处的支撑架支撑并置于底面上，所述下托板(17)固定在下方的支撑架上，所述下托板(17)上开了一个出水孔(20)，该出水孔(20)可连接出水管将中空大理石(11)中间流下来的水排到设备外部；所述圆柱托盘(21)固定在下托板(17)上，所述转盘轴承(19)固定在圆柱托盘(21)上方，由所述的电机(16)驱动；所述托盘(18)固定在中空大理石(11)的下方，由所述的转盘轴承(19)带动托盘(18)和中空大理石(11)转动；所述校正盘固定底座(7)固定在机架(2)上，通过铰链与校正盘托板(4)连接，校正盘托板(4)的一角处固定校正盘驱动电机(5)，用来驱动校正盘驱动靠轮(6)，从而驱动校正盘(3)；所述工件环底座(13)固定在机架(2)上，通过铰链与工件环托板(12)连接，工件环托板(12)的一角处固定工件环驱动电机(8)，用来驱动工件环驱动靠轮(9)，从而驱动工件环(10)；所述控制箱(1)放置在机架(2)旁边，用来控制校正盘(3)和工件环(10)的转速；所述的中空大理石(11)，中空结构的直径为抛光盘直径的1/3~1/8，中空结构为通孔，所述抛光机的抛光液为双向流动。 数据由马 克 团 队整理