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特效模板生成方法、特效生成方法、装置及存储介质

申请号: CN202311322422.6
申请人: 书行科技(北京)有限公司
申请日期: 2023/10/12

摘要文本

本申请实施例公开了一种特效模板生成方法、特效生成方法、装置及存储介质。特效模板生成方法包括:获取待处理图像及其主体掩膜;获取初始特效模板,初始特效模板用于根据主体掩膜为待处理图像生成主体识别特效;响应于基于参数控制界面触发的参数控制指令获取特效调节参数和掩膜膨胀参数;根据特效调节参数、掩膜膨胀参数和初始特效模板生成主体识别特效模板,主体识别特效模板用于根据待处理图像对应的膨胀掩膜为待处理图像生成与特效调节参数匹配的主体识别特效,膨胀掩膜根据掩膜膨胀参数对主体掩膜进行膨胀处理后获得。可以提供可视化的参数控制界面以获取的相关参数和初始特效模板生成主体识别特效模板,能提高特效模板生成的效率。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 特效模板生成方法、特效生成方法、装置及存储介质
专利类型 发明申请
申请号 CN202311322422.6
申请日 2023/10/12
公告号 CN117455753A
公开日 2024/1/26
IPC主分类号 G06T3/04
权利人 书行科技(北京)有限公司
发明人 王萍萍
地址 北京市朝阳区安定路5号院5号楼18层01单元

专利主权项内容

1.一种特效模板生成方法,其特征在于,所述方法包括:获取待处理图像以及所述待处理图像的主体掩膜;获取初始特效模板,其中,所述初始特效模板用于根据所述主体掩膜为所述待处理图像生成主体识别特效;响应于基于参数控制界面触发的参数控制指令,获取特效调节参数和掩膜膨胀参数,其中,所述特效调节参数用于调节所述待处理图像对应的主体识别特效的显示效果;根据所述特效调节参数、所述掩膜膨胀参数和所述初始特效模板,生成主体识别特效模板,其中,所述主体识别特效模板用于根据所述待处理图像对应的膨胀掩膜为所述待处理图像生成与所述特效调节参数匹配的主体识别特效,所述膨胀掩膜根据所述掩膜膨胀参数对所述主体掩膜进行膨胀处理后获得。 来自马克数据网