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层理缝参数获取方法、装置、设备及可读存储介质

申请号: CN202311725522.3
申请人: 北京大学
申请日期: 2023/12/15

摘要文本

本发明涉及图像处理领域,本发明提供一种层理缝参数获取方法、装置、设备及可读存储介质,该方法包括:获取目标层理缝的扫描电镜图像,确定所述扫描电镜图像对应的二值图像;基于所述二值图像,确定所述目标层理缝的孔隙度和比表面积;对所述二值图像对应的图像矩阵进行分水岭分割,得到所述目标层理缝的平均孔隙半径和孔径标准偏差。本发明通过获取目标层理缝的扫描电镜图像,进一步确定扫描电镜图像对应的二值图像,然后基于二值图像确定目标层理缝的参数之中的孔隙度和比表面积,最后对二值图像对应的图像矩阵进行分水岭分割,得到目标层理缝的参数之中的平均孔隙半径和孔径标准偏差。实现了层理缝参数的准确获取。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 层理缝参数获取方法、装置、设备及可读存储介质
专利类型 发明授权
申请号 CN202311725522.3
申请日 2023/12/15
公告号 CN117409408B
公开日 2024/3/8
IPC主分类号 G06V20/69
权利人 北京大学
发明人 杜晓宇; 金之钧; 曾联波; 刘国平; 陆国青; 鲁健康
地址 北京市海淀区颐和园路5号

专利主权项内容

1.一种层理缝参数获取方法,其特征在于,包括:获取目标层理缝的扫描电镜图像,确定所述扫描电镜图像对应的二值图像;基于所述二值图像,确定所述目标层理缝的孔隙度和比表面积;对所述二值图像对应的图像矩阵进行分水岭分割,得到所述目标层理缝的平均孔隙半径和孔径标准偏差;所述基于所述二值图像,确定所述目标层理缝的孔隙度和比表面积包括:对所述二值图像中所有像素点的像素值进行取反处理,得到孔隙像素值;基于所述孔隙像素值确定孔隙面积,根据所述二值图像的像素总数和所述孔隙面积,确定所述目标层理缝的孔隙度;基于所述二值图像对应的边界像素矩阵确定孔隙周长;根据所述孔隙面积与所述孔隙周长的计算结果,确定所述目标层理缝的比表面积;所述基于所述二值图像对应的边界像素矩阵确定孔隙周长包括:基于所述二值图像中与背景像素相邻的前景像素,创建与所述二值图像大小相同的边界像素矩阵,其中,所述边界像素矩阵中的边界像素与所述前景像素位置对应;确定所述边界像素的总数为孔隙周长;所述对所述二值图像对应的图像矩阵进行分水岭分割,得到所述目标层理缝的平均孔隙半径和孔径标准偏差包括:对所述二值图像对应的图像矩阵进行分水岭分割,得到单个孔隙区域图像;确定所述图像矩阵中的目标元素,所述二值图像中与所述目标元素对应位置的目标像素,所述目标像素的最近非零像素,以及所述目标像素与所述最近非零像素的曼哈顿距离,所述目标元素的值为所述曼哈顿距离;根据所述二值图像中各像素在所述二值图像中的像素值,以及在所述单个孔隙区域图像中的像素值,确定各孔隙半径;基于各所述孔隙半径,确定所述目标层理缝的平均孔隙半径和孔径标准偏差。。来自: