一种基于密度聚类的试卷密封线定位方法及系统
摘要文本
本发明公开了一种基于密度聚类的试卷密封线定位方法及系统,涉及密封线识别技术领域,包括:获取原始试卷图片;对原始试卷图片进行倾斜校正,得到校正试卷图片;设定一识别间距;纵向划分出若干个Y向待识别图片;对每个Y向待识别图片进行相似度匹配,获得试卷密封线初步定位图片;在试卷密封线初步定位图片中随机横向分散切割出多个X坐标校验区域;获得X坐标集合;剔除X坐标集合中的离群点,得到有效X坐标集合;对有效X坐标集合中的所有X坐标值求平均值获得密封线X坐标。本发明的优点在于:有效的保证密封线X坐标定位精准度,进行裁切或遮挡考生信息区域时,可有效的在隐去考生信息的同时不遮挡考生答案,提高阅卷效率。
申请人信息
- 申请人:山东五思信息科技有限公司
- 申请人地址:250000 山东省济南市舜华路1000号齐鲁软件园A2座308
- 发明人: 山东五思信息科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种基于密度聚类的试卷密封线定位方法及系统 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311839463.2 |
| 申请日 | 2023/12/29 |
| 公告号 | CN117495950B |
| 公开日 | 2024/3/26 |
| IPC主分类号 | G06T7/70 |
| 权利人 | 山东五思信息科技有限公司 |
| 发明人 | 时维涛; 胡大为; 秦巍 |
| 地址 | 山东省济南市舜华路1000号齐鲁软件园A2座308 |
专利主权项内容
1.一种基于密度聚类的试卷密封线定位方法,其特征在于,包括:获取扫描仪扫描的试卷图片,记为原始试卷图片;基于基准坐标系,对原始试卷图片进行倾斜校正,得到校正试卷图片;设定一识别间距;在密封线识别区间内,按照识别间距,纵向划分出若干个Y向待识别图片;设定一试卷密封线标准图片;对每个Y向待识别图片与试卷密封线标准图片进行相似度匹配,获得试卷密封线初步定位图片;在试卷密封线初步定位图片中随机横向分散切割出多个区域,记为X坐标校验区域;针对每个X坐标校验区域逐像素检测密封线点位X坐标值,所有区域内密封线X坐标值组成X坐标集合;针对X坐标集合基于Grubbs检验算法计算点位集合中各点位的密集程度及离群点位,剔除X坐标集合中的离群点,得到有效X坐标集合;对有效X坐标集合中的所有X坐标值求平均值获得密封线X坐标;在校正试卷图片中将密封线X坐标左侧或右侧的区域裁切或遮挡;其中,所述对每个Y向待识别图片与试卷密封线标准图片进行相似度匹配,获得试卷密封线初步定位图片具体包括:基于所有识别出的历史密封线X坐标求平均值,获得密封线初始识别坐标;获取每个Y向待识别图片中心线的X坐标;采用密封线相似匹配算法,确定每个Y向待识别图片与试卷密封线标准图片之间的图片相似指标;基于图片相似指标、密封线初始识别坐标和Y向待识别图片中心线的X坐标,通过综合拟合公式,计算Y向待识别图片的密封线综合拟合指标;筛选出密封线综合拟合指标最小的Y向待识别图片,作为试卷密封线初步定位图片;其中,所述综合拟合公式具体为:式中,为第i个Y向待识别图片的密封线综合拟合指标,/>为第i个Y向待识别图片与试卷密封线标准图片之间的图片相似指标,/>为第i个Y向待识别图片中心线的X坐标,/>为密封线初始识别坐标,/>为距离修正权重;所述密封线相似匹配算法具体为:将Y向待识别图片和试卷密封线标准图片按照相同的划分逻辑,划分出若干个相似匹配区域;分别计算每个相似匹配区域内,Y向待识别图片中的疑似试卷密封线像素点和试卷密封线标准图片中的试卷密封线像素点之间的X坐标差;将所有的X坐标差求取标准差,以该标准差作为Y向待识别图片与试卷密封线标准图片之间的图片相似指标。