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一种扩充缺陷样本的方法、装置、设备及存储介质

申请号: CN202410161232.9
申请人: 成都数之联科技股份有限公司
申请日期: 2024/2/5

摘要文本

本申请提供一种扩充缺陷样本的方法、装置、设备及存储介质,涉及缺陷检测技术领域,用于解决缺陷样本较少的问题。该方法包括:对真实面板中的缺陷进行图像采集,获得原始缺陷图像;将所述原始缺陷图像输入训练好的VAE模型中进行缺陷扩充,获得扩充缺陷图像;其中,所述训练好的VAE模型中的编码器包括卷积层、特征均值层和指数函数激活层,所述训练好的VAE模型中的解码器包括上采样层和批量归一化层,所述训练好的VAE模型中的损失函数包括KL散度计算模块。因此,不仅可以在进行模型训练时,更快速、更高效进行模型收敛,缩短模型的训练时间,还可以提高目标检测模型的指标,降低缺陷检测模型的漏检率。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种扩充缺陷样本的方法、装置、设备及存储介质
专利类型 发明申请
申请号 CN202410161232.9
申请日 2024/2/5
公告号 CN117710371A
公开日 2024/3/15
IPC主分类号 G06T7/00
权利人 成都数之联科技股份有限公司
发明人 请求不公布姓名; 请求不公布姓名
地址 四川省成都市武侯区人民南路四段11号附1号1栋8层804、805号

专利主权项内容

1.一种扩充缺陷样本的方法,其特征在于,所述方法包括:对真实面板中的缺陷进行图像采集,获得原始缺陷图像;将所述原始缺陷图像输入训练好的VAE模型中进行缺陷扩充,获得扩充缺陷图像;其中,所述训练好的VAE模型中的编码器包括卷积层、特征均值层和指数函数激活层,所述训练好的VAE模型中的解码器包括上采样层和批量归一化层,所述训练好的VAE模型中的损失函数包括KL散度计算模块。