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一种虚实光栅对准方法

申请号: CN202410153877.8
申请人: 安徽中科光栅科技有限公司
申请日期: 2024/2/4

摘要文本

本发明涉及拼接光栅,具体涉及一种虚实光栅对准方法,在双光束干涉光刻光路中,将实光栅置于双光束干涉场并与虚光栅重叠,通过调节实光栅姿态,使得重叠区域中虚实光栅干涉在实光栅表面产生的莫尔条纹为零条纹,将实光栅调节至与虚光栅平行;平行移动实光栅,找到实光栅在两个方向上的衍射光强相等的交点,并对这些交点对应的位置进行提前标定,后续虚实光栅对准时以标定位置作为虚实光栅重合标志;本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的制作拼接光栅时无法准确判断干涉光刻形成的光栅结构是否对准的缺陷。 关注公众号马克数据网

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种虚实光栅对准方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410153877.8
申请日 2024/2/4
公告号 CN117687135A
公开日 2024/3/12
IPC主分类号 G02B5/18
权利人 安徽中科光栅科技有限公司
发明人 陈火耀; 刘斌
地址 安徽省合肥市肥东县长临河镇科创小镇1号3#楼

专利主权项内容

1.一种虚实光栅对准方法,其特征在于:在双光束干涉光刻光路中,将实光栅置于双光束干涉场并与虚光栅重叠,通过调节实光栅姿态,使得重叠区域中虚实光栅干涉在实光栅表面产生的莫尔条纹为零条纹,将实光栅调节至与虚光栅平行;平行移动实光栅,找到实光栅在两个方向上的衍射光强相等的交点,并对这些交点对应的位置进行提前标定,后续虚实光栅对准时以标定位置作为虚实光栅重合标志;其中,虚光栅为由两个平面波之间形成的干涉条纹。