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一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机的制作方法

时间:2022-01-23 阅读: 作者:专利查询

一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机的制作方法

1.本实用新型涉及研磨抛光机领域,具体为一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机。


背景技术:

2.双面研磨抛光一体机作为一种机械加工设备,能够对工件进行双面研磨抛光,对比现有的研磨抛光设备具备较高的加工效率。
3.现有专利(公告号:cn210819062u)公开了一种双面研磨抛光机。发明人在实现该方案的过程中发现现有技术中存在如下问题没有得到良好的解决:1、该装置在使用过程中,对工件进行研磨抛光时,产生大量金属碎屑无法及时清除,导致金属碎屑混入第一研磨块和第二眼膜块中,影响工件的研磨抛光质量;2、该装置在使用过程中,对于工件进行研磨抛光操作是存在夹持不足的问题,导致工件在研磨抛光操作时极易发生移位无法完成研磨抛光操作。


技术实现要素:

4.本实用新型的目的在于提供一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机,以解决上述背景技术中提出的清洁不足和夹持不足问题。为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机,包括设备架,所述设备架的外侧中部固定连接有水泵,所述水泵的输入端和输出端分别固定连接有进水管和一出二导水管,所述设备架的内侧中部固定连接有滑轨,所述滑轨的内侧活动连接有夹持机构,所述设备架的底端和顶端均固定连接有研磨抛光机构。
5.所述夹持机构包括滑架,所述滑架的外侧活动连接在滑轨的内侧,所述滑架的外侧固定连接有驱动电机,所述驱动电机的输出端固定连接有第一导轮,所述滑架的外侧活动连接有驱动轮,所述驱动轮的外侧活动连接在滑轨的内侧,所述驱动轮的顶端中部固定连接有第二导轮,所述第一导轮的外侧通过皮带传动连接在第二导轮的外侧,所述滑架的内侧固定连接有第一套管,所述滑架的内侧活动连接有调距液压杆,所述调距液压杆的右端活动连接有夹持板,所述夹持板的左端固定连接有第一套杆,所述第一套杆的左端滑动连接在第二套管右端内侧。
6.所述研磨抛光机构包括第二套管和伸缩液压杆,所述第二套管的底端分别固定连接在设备架的底端和顶端,所述伸缩液压杆的底端分别固定连接在设备架的底端和顶端,所述伸缩液压杆的顶端固定连接有安装架,所述安装架的底端固定连接有第二套杆,所述第二套杆的底端活动连接在第二套管的顶端内侧,所述安装架的底端内侧固定连接有打磨电机,所述打磨电机的输出端固定连接有第一平齿轮,所述安装架的顶端内侧活动连接有第二平齿轮,所述第一平齿轮的外侧啮合在第二平齿轮的外侧,所述第二平齿轮的顶端中部固定连接有磨抛光盘。
7.优选的,所述滑架的外侧活动连接有导向轮,且导向轮的外侧活动连接在滑轨的
内侧,所述滑架的外侧固定连接有限位滑板,且限位滑板的外侧活动连接在滑轨的内侧。
8.优选的,所述调距液压杆的数量为四根,每两根所述调距液压杆为一组,每组所述调距液压杆的左端分别固定连接在滑架的内壁左端和内壁右端。
9.优选的,所述夹持板的右端开设有防滑纹,所述夹持板的外侧固定连接有加强筋。
10.优选的,所述安装架的顶端内侧开设有齿纹,所述安装架的数量为两个。
11.优选的,所述第二平齿轮的数量为三个,三个所述第二平齿轮的外侧均啮合在安装架的顶端内侧。
12.与现有技术相比,本实用新型的有益效果:
13.本实用新型中,通过该装置完成工件的高效率清洗处理,驱动电机通过第一导轮和第二导轮带动驱动轮在滑轨的内侧转动,实现滑架和夹持板在滑轨的内侧旋转,搭配水泵、进水管和一出二导水管的搭配,分别向工件的顶部和底部进行喷水清洁,实现该装置对工件的旋转清洗,提高该装置对工件的清洁保护,提高工件的研磨抛光质量。
14.本实用新型中,通过该装置完成工件的夹持稳定性提升,对工件进行夹持固定时,通过调距液压杆调整夹持板在滑架的内侧位置,通过第一套杆在第一套管的内侧滑动,完成夹持板在滑架的内侧活动方向限制,提高夹持板在滑架的内侧运动稳定性,提高该装置对工件的夹持稳定性,避免工件在研磨抛光操作时发生移位。
附图说明
15.图1为本实用新型结构的正剖图;
16.图2为本实用新型滑架结构的正剖图;
17.图3为本实用新型滑架结构的俯视图;
18.图4为本实用新型安装架结构的正剖图。
19.图中:1、设备架;2、水泵;3、进水管;4、一出二导水管;5、滑轨;6、夹持机构;61、滑架;62、驱动电机;63、第一导轮;64、驱动轮;65、第二导轮;66、第一套管;67、调距液压杆;68、夹持板;69、第一套杆;7、研磨抛光机构;71、第二套管;72、伸缩液压杆;73、安装架;74、第二套杆;75、打磨电机;76、第一平齿轮;77、第二平齿轮;78、研磨抛光盘。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术工作人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
21.请参阅图1至图4,本实用新型提供一种技术方案:一种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机,包括设备架1,设备架1的外侧中部固定连接有水泵2,水泵2的输入端和输出端分别固定连接有进水管3和一出二导水管4,设备架1的内侧中部固定连接有滑轨5,滑轨5的内侧活动连接有夹持机构6,设备架1的底端和顶端均固定连接有研磨抛光机构7。
22.夹持机构6包括滑架61,滑架61的外侧活动连接在滑轨5的内侧,滑架61的外侧固定连接有驱动电机62,驱动电机62的输出端固定连接有第一导轮63,滑架61的外侧活动连接有驱动轮64,驱动轮64的外侧活动连接在滑轨5的内侧,驱动轮64的顶端中部固定连接有
第二导轮65,第一导轮63的外侧通过皮带传动连接在第二导轮65的外侧,滑架61的内侧固定连接有第一套管66,滑架61的内侧活动连接有调距液压杆67,调距液压杆67的右端活动连接有夹持板68,夹持板68的左端固定连接有第一套杆69,第一套杆69的左端滑动连接在第二套管71右端内侧。
23.研磨抛光机构7包括第二套管71和伸缩液压杆72,第二套管71的底端分别固定连接在设备架1的底端和顶端,伸缩液压杆72的底端分别固定连接在设备架1的底端和顶端,伸缩液压杆72的顶端固定连接有安装架73,安装架73的底端固定连接有第二套杆74,第二套杆74的底端活动连接在第二套管71的顶端内侧,安装架73的底端内侧固定连接有打磨电机75,打磨电机75的输出端固定连接有第一平齿轮76,安装架73的顶端内侧活动连接有第二平齿轮77,第一平齿轮76的外侧啮合在第二平齿轮77的外侧,第二平齿轮77的顶端中部固定连接有研磨抛光盘78。
24.本实施例中,如图1、图2和图3所示,滑架61的外侧活动连接有导向轮,且导向轮的外侧活动连接在滑轨5的内侧,滑架61的外侧固定连接有限位滑板,且限位滑板的外侧活动连接在滑轨5的内侧,驱动电机62通过第一导轮63和第二导轮65带动驱动轮64在滑轨5的内侧转动,实现滑架61和夹持板68在滑轨5的内侧旋转。
25.本实施例中,如图2所示,调距液压杆67的数量为四根,每两根调距液压杆67为一组,每组调距液压杆67的左端分别固定连接在滑架61的内壁左端和内壁右端,通过调距液压杆67调整夹持板68在滑架61的内侧位置,通过第一套杆69在第一套管66的内侧滑动,完成夹持板68在滑架61的内侧活动方向限制,提高夹持板68在滑架61的内侧运动稳定性。
26.本实施例中,如图1、图2和图3所示,夹持板68的右端开设有防滑纹,夹持板68的外侧固定连接有加强筋,通过调整调距液压杆67的伸缩位置,带动夹持板68对工件在研磨抛光盘78的上方位置调整。
27.本实施例中,如图1和图4所示,安装架73的顶端内侧开设有齿纹,安装架73的数量为两个,通过伸缩液压杆72调整安装架73的位置,通过第二套杆74和第二套管71的搭配,实现安装架73的运动稳定性提升。
28.本实施例中,如图1和图4所示,第二平齿轮77的数量为三个,三个第二平齿轮77的外侧均啮合在安装架73的顶端内侧,打磨电机75通过第一平齿轮76和第二平齿轮77完成研磨抛光盘78的驱动,对工件的顶部和底部进行研磨抛光操作。
29.本实用新型的使用方法和优点:该种具有清洗功能的双面研磨抛光一体机在使用时,工作过程如下:
30.如图1至图4所示,对工件进行夹持固定时,通过调距液压杆67调整夹持板68在滑架61的内侧位置,通过第一套杆69在第一套管66的内侧滑动,完成夹持板68在滑架61的内侧活动方向限制,提高夹持板68在滑架61的内侧运动稳定性,提高该装置对工件的夹持稳定性。
31.对工件进行打磨研磨抛光操作时,通过伸缩液压杆72调整安装架73的位置,通过第二套杆74和第二套管71的搭配,实现安装架73的运动稳定性提升,打磨电机75通过第一平齿轮76和第二平齿轮77完成研磨抛光盘78的驱动,对工件的顶部和底部进行研磨抛光操作,通过调整调距液压杆67的伸缩位置,带动夹持板68对工件在研磨抛光盘78的上方位置调整,实现该装置对工件的研磨抛光操作;
32.驱动电机62通过第一导轮63和第二导轮65带动驱动轮64在滑轨5的内侧转动,实现滑架61和夹持板68在滑轨5的内侧旋转,搭配水泵2、进水管3和一出二导水管4的搭配,分别向工件的顶部和底部进行喷水清洁,实现该装置对工件的旋转清洗,提高该装置对工件的清洁保护。
33.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术工作人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的仅为本实用新型的优选例,并不用来限制本实用新型,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。