1.本发明属于蒸镀设备技术领域，尤其涉及一种精密掩膜板和掩膜板。
背景技术：
2.现在，oled(organic light-emitting diode，有机电致发光二极管)显示面板在制备中，采用蒸镀工艺形成发光材料层，蒸镀过程中需要使用精密掩膜板，精密掩膜板在张网后存在褶皱问题、影响产品良率。
技术实现要素：
3.本发明实施例提供了一种精密掩膜板和掩膜板，本技术中提供的精密掩膜板在张网后出现褶皱的概率大大降低，提升了产品良率。
4.一方面，本发明实施例提供了一种精密掩膜板，包括掩膜板主体，所述掩膜板主体包括至少一个蒸镀区域、至少部分围绕所述蒸镀区域的遮挡区域以及围绕所述蒸镀区域和遮挡区域的边缘区域，其中，所述蒸镀区域包括多个精密蒸镀孔，所述边缘区域包括多个边缘区开孔，所述遮挡区域包括多个凹槽。
5.根据本技术第一方面的前述任意实施方式，所述遮挡区域内所述凹槽的排布方式与所述蒸镀区域内所述精密蒸镀孔的排布方式相同，和/或，所述边缘区域内所述边缘区开孔的排布方式与所述蒸镀区域内所述精密蒸镀孔的排布方式相同。
6.根据本技术第一方面的前述任意实施方式，至少部分所述边缘区开孔的形状和大小相同；
7.优选的，至少部分边缘区开孔与所述精密蒸镀孔的形状和大小相同。
8.根据本技术第一方面的前述任意实施方式，所述精密掩膜板包括用于与蒸镀源相对的蒸镀面以及背离所述蒸镀面一侧的玻璃面，所述精密蒸镀孔包括沿所述精密掩膜板厚度方向排列的第一半刻孔和第二半刻孔，所述第一半刻孔和所述第二半刻孔相连通，所述第一半刻孔包括位于所述玻璃面的第一开口，所述第二半刻孔包括位于所述蒸镀面的第二开口，所述第二开口覆盖所述第一开口。
9.根据本技术第一方面的前述任意实施方式，所述遮挡区域的多个所述凹槽的凹槽开口位于所述蒸镀面。
10.根据本技术第一方面的前述任意实施方式，所述凹槽开口位于所述蒸镀面的所述凹槽与所述第二半刻孔的形状、大均相同。
11.根据本技术第一方面的前述任意实施方式，所述多个凹槽中，一部分所述凹槽的凹槽开口位于所述蒸镀面，另一部分所述凹槽的凹槽开口位于所述玻璃面。
12.根据本技术第一方面的前述任意实施方式，至少部分所述凹槽开口位于所述蒸镀面的所述凹槽与所述第二半刻孔的形状、大小均相同，至少部分所述凹槽开口位于所述玻璃面的所述凹槽与所述第一半刻孔的形状、大小均相同。
13.根据本技术第一方面的前述任意实施方式，所述遮挡区域的宽度大于0且小于1毫
米。
14.另一方面，本技术还提供了一种掩膜板，包括本技术第一方面提供的任意一种精密掩膜板，还包括支撑框架，所述支撑框架包括掩膜边框所述精密掩膜板固定于所述掩膜边框上。
15.与现有技术相比，本发明实施例提供的精密掩膜板包括掩膜板主体，掩膜板主体包括遮挡区域、边缘区域和至少一个蒸镀区域，其中，蒸镀区域包括多个精密蒸镀孔，从而可以使发光材料透过精密蒸镀孔后蒸镀于适宜的位置；边缘区域包括多个边缘区开孔，从而可以减小边缘区域与蒸镀区域的支撑强度差异；遮挡区域包括多个凹槽，一方面可以保证遮挡区域可以起到良好的遮挡有机材料的效果，另一方面可以减小遮挡区域与蒸镀区域的支撑强度差异；本技术中提供的精密掩膜板中，由于遮挡区域、边缘区域和各蒸镀区域的支撑强度差异小，从而可以在对精密掩膜板进行张网的过程中，使得各个区域受到的应力差异减小，从而降低张网后精密掩膜板出现褶皱的概率，提升产品良率。
附图说明
16.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1是本发明实施例提供的一种精密掩膜板的结构示意图；
18.图2是本发明实施例提供的另一种精密掩膜板的结构示意图；
19.图3是图1中a-a区域在一些实施例中的结构示意图；
20.图4是本发明精密掩膜板的另一些实施例的结构示意图；
21.图5是本发明精密掩膜板的又一些实施例中的结构示意图；
22.图6是本发明实施例提供的一种掩膜板的结构示意图。
23.附图中：
24.1-精密掩膜板；10-遮挡区域；101-凹槽；11-边缘区域；111-边缘区开孔；12-蒸镀区域；121-精密蒸镀孔；1211-第一半刻孔；1212-第二半刻孔；1213-第一开口；1214-第二开口；13-蒸镀面；14-玻璃面；2-掩膜板；3-支撑框架；31-掩膜边框；32-支撑条。
具体实施方式
25.下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本发明的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。
26.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备
所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
27.在进行oled显示面板中发光材料层的制备时，需要使用精密掩膜板来控制发光材料的蒸镀位置，相关技术中的精密掩膜板包括蒸镀区域和边缘区域，蒸镀区域为网面结构，具有与发光材料层中的每个发光单元相对的多个精密蒸镀孔，边缘区域为遮挡区域，在张网过程中，由于蒸镀区域与边缘区域的差异，因此会造成区域过渡位置应力突变，从而使得精密掩膜板在张网后存在褶皱问题、影响产品良率，为此，本技术提供了一种可提高产品良率的精密掩膜板和掩膜板。
28.为了更好地理解本发明，下面结合图1至图6根据本发明实施例的精密掩膜板1和掩膜板进行详细描述。
29.请参阅图1至图3，本发明实施例提供了一种精密掩膜板1，包括掩膜板主体，掩膜板主体包括至少一个蒸镀区域12、至少部分围绕蒸镀区域12的遮挡区域10以及围绕蒸镀区域12和遮挡区域10的边缘区域11，其中，蒸镀区域12包括多个精密蒸镀孔121，边缘区域11包括多个边缘区开孔111，遮挡区域10包括多个凹槽101。
30.本技术提供的精密掩膜板1包括掩膜板主体，掩膜板主体包括遮挡区域10、边缘区域11和至少一个蒸镀区域12，其中，蒸镀区域12包括多个精密蒸镀孔121，从而可以使发光材料透过精密蒸镀孔121后蒸镀于适宜的位置；边缘区域11包括多个边缘区开孔111，从而可以减小边缘区域11与蒸镀区域12的支撑强度差异；遮挡区域10包括多个凹槽101，一方面可以保证遮挡区域10可以起到良好的遮挡有机材料的效果，另一方面可以减小遮挡区域10与蒸镀区域12的支撑强度差异；本技术中提供的精密掩膜板1中，由于遮挡区域10、边缘区域11和各蒸镀区域12的支撑强度差异小，从而可以在对精密掩膜板1进行张网的过程中，使得各个区域受到的应力差异减小，从而降低张网后精密掩膜板1出现褶皱的概率，提升产品良率。
31.本技术提供的上述精密掩膜板1中，如图1和图2所示，遮挡区域10至少部分围绕蒸镀区域12，从而可以限定出蒸镀区域12的部分或全部边界，以限定出显示面板的显示功能区，便于进行显示面板制作的后续工艺制程。
32.本技术提供的精密掩膜板1中，起主要支撑作用的支撑区域包括相邻精密蒸镀孔121之间的区域、相邻凹槽101之间的区域以及相邻边缘区开孔111之间的区域，起次要支撑作用的区域包括凹槽101的底壁区域，在精密掩膜板1中，通过提高其主要支撑作用的支撑区域的分布均匀性即可降低精密掩膜板1各区域的应力差异，使得在进行张网时精密掩膜板1的平整度更高、减少褶皱产生的概率，从而提升蒸镀效果。
33.精密掩膜板1中其主要支撑作用的支撑区域的分布均匀性主要包括各区域的图案化一致程度，具体包括：遮挡区域10中的各个凹槽101、边缘区域11的各个边缘区开孔111以及蒸镀区域12中的精密蒸镀孔121的排布方式、形状、大小等等，下面结合具体的实施方式进行具体说明。
34.在一种可行的实施方式中，遮挡区域10内凹槽101的排布方式与蒸镀区域12内精密蒸镀孔121的排布方式相同，和/或，边缘区域11内边缘区开孔111的排布方式与蒸镀区域12内精密蒸镀孔121的排布方式相同。
35.由于掩膜板主体中起主要支撑作用的支撑区域包括相邻精密蒸镀孔121之间的区
域、相邻凹槽101之间的区域以及相邻边缘区开孔111之间的区域，在上述实施方式中，将遮挡区域10内的凹槽101的排布方式设计为与蒸镀区域12内精密蒸镀孔121的排布方式相同，和/或，将边缘区域11内的边缘区开孔111的排布方式设计为与蒸镀区域12内精密蒸镀孔121的排布方式相同，从而可以使得掩膜板主体中起主要支撑作用的支撑区域分布均匀，进一步减少掩膜板主体各部分的应力差异，使得掩膜板在张网后平整度更高，当遮挡区域10内的凹槽101的排布方式、蒸镀区域12内精密蒸镀孔121的排布方式以及边缘区域11内边缘区开孔111的排布方式均相同时，可进一步提升掩膜板主体的应力分布均匀性，从而进一步提升张网平整度。
36.在一种可行的实施方式中，至少部分边缘区开孔111的形状和大小相同，将至少部分边缘区开孔111的形状和大小设计为相同，一方面便于制备，另一方面可通过减小边缘区域11内边缘区开孔111的差异来提升边缘区域11的均匀性，减少边缘区域11内各区域之间的应力差异。
37.在一种可行的实施方式中，至少部分边缘区开孔111与精密蒸镀孔121的形状和大小相同，一方面便于制备，另一方面可以进一步减少边缘区域11内各区域之间、蒸镀区域12内各区域之间以及边缘区域11与蒸镀区域12之间的应力差异。
38.在一种可行的实施方式中，如图3所示，精密掩膜板1包括用于与蒸镀源相对的蒸镀面13以及背离蒸镀面13一侧的玻璃面14，精密蒸镀孔121包括沿精密掩膜板1厚度方向排列的第一半刻孔1211和第二半刻孔1212，第一半刻孔1211和第二半刻孔1212相连通，第一半刻孔1211包括位于玻璃面14的第一开口1213，第二半刻孔1212包括位于蒸镀面13的第二开口1214，第二开口1214覆盖第一开口1213。
39.在上述实施方式中，各精密蒸镀孔121均为分别从玻璃面14与蒸镀面13采用两次半刻蚀工艺制备而成，采用两次半刻蚀工艺形成精密蒸镀孔121可以保证形成的精密蒸镀孔121的边缘较光滑，使得经过精密蒸镀孔121的发光材料不易在精密蒸镀孔121内附着，从而节省发光材料。
40.在一种可行的实施方式中，如图3所示，第一半刻孔1211从掩膜板主体靠近玻璃面14的一端到远离玻璃面14的一端逐渐收拢，并在玻璃面14形成第一开口1213，第二半刻孔1212从掩膜板主体靠近蒸镀面13的一端到远离蒸镀面13的一端逐渐收拢后与第一半刻孔1211连通，并在蒸镀面13形成第二开口1214，第二开口1214覆盖第一开口1213，第二半刻孔1212的容积大于第一半刻孔1211，便于发光材料进入精密蒸镀孔121。
41.在一种可行的实施方式中，如图3所示，遮挡区域10的多个凹槽101的凹槽101开口位于蒸镀面13。
42.在一种可行的实施方式中，如图3所示，凹槽101开口位于蒸镀面13的凹槽101与第二半刻孔1212的形状、大均相同。
43.在上述实施方式中，将遮挡区域10中的凹槽101形成于蒸镀面13，在制备第二半刻孔1212时同时制备与第二半刻孔1212相同的凹槽101，便于制备，同时由于第二半刻孔1212的容积大于第一半刻孔1211，因此与第二半刻孔1212同时制备形成的凹槽101容积较大，由于支撑强度受支撑区域的厚度影响，凹槽101容积较大时，凹槽101底壁的支撑力较小，使得应力主要沿凹槽101之间的支撑区域传递，从而可进一步减小遮挡区域10与蒸镀区域12之间的支撑强度差异。
44.在另一种可行的实施方式中，遮挡区域10的多个凹槽101的凹槽开口位于蒸镀面13，凹槽101与第二半刻孔1212的形状不同，凹槽101沿掩膜板本体厚度方向的截面可以为矩形或者其它形状，本技术不做特别限定。
45.在另一种可行的实施方式中，如图4所示，遮挡区域10的多个凹槽101的凹槽开口位于玻璃面14，当凹槽开口位于玻璃面14时，可以将凹槽101制备为与第一半刻孔1211的形状和大小相同，与第一半刻孔1211同时制备、节省制备工艺；当凹槽开口位于玻璃面14时，也可以将凹槽101与第一半刻孔1211制备为不同，凹槽101沿掩膜板本体厚度方向的截面可以为矩形或者其它形状，本技术不做特别限定。
46.在另一种可行的实施方式中，如图5所示，多个凹槽101中，一部分凹槽101的凹槽开口位于蒸镀面13，另一部分凹槽101的凹槽开口位于玻璃面14，可使蒸镀面13和玻璃面14受力均匀，防止产生翘曲的情况。
47.当多个凹槽101中，一部分凹槽101的凹槽开口位于蒸镀面13，另一部分凹槽101的凹槽开口位于玻璃面14时，至少部分凹槽开口位于蒸镀面13的凹槽101与第二半刻孔1212的形状、大小均相同，至少部分凹槽开口位于玻璃面14的凹槽101与第一半刻孔1211的形状、大小均相同，从而可将遮挡区域10的凹槽101与蒸镀区域12的精密蒸镀孔121同时制备，节省制备工艺。
48.在一种可行的实施方式中，遮挡区域10的宽度大于0且小于1毫米，可以在划分出显示区域的同时、减小遮挡区域10对精密掩膜板1张网效果的影响，具体地，遮挡区域10的宽度可以为0.5微米、10微米、50微米、85微米、130微米、166微米、190微米、190微米、200微米、300微米、450微米、899微米、1毫米等等，本技术不做特别限定，可依照实际的工艺的精度进行制备。
49.本技术还提供了一种掩膜板2，如图6所示，包括本技术中上述技术方案中提供的任意一种精密掩膜板1，还包括支撑框架3，支撑框架3包括掩膜边框31和多个固定于掩膜边框31上的支撑条32，多个支撑条32限定出至少一个蒸镀开口，精密掩膜板1固定于支撑框架3上，每个蒸镀开口与蒸镀区域12一一对应。
50.本技术提供的掩膜板2中，包括精密掩膜板1和支撑框架3，支撑框架3包括掩膜边框31和多个支撑条32，支撑条32固定于掩膜边框31上，其中部分支撑条32沿第一方向延伸、另一部分支撑条32沿第二方向延伸，多个支撑条32限定出至少一个开口，精密掩膜板1设置于支撑条32上，且精密掩膜板1的蒸镀区域12与支撑条32限定出的开口相对，从而使得发光材料经开口以及精密掩膜板1的精密蒸镀孔121后蒸镀到适宜的位置。
51.本技术中提供的精密掩膜板1中，遮挡区域10至少部分围绕蒸镀区域12，在张网过程中，当可以借用支撑条32进行辅助遮挡时，可将精密掩膜板1中的遮挡区域10设置为仅部分围绕蒸镀区域12(如图2所示)，在实际蒸镀过程中，通过支撑条32的部分区域将与显示区域周边相对且未经遮挡区域10限定的区域进行遮挡，通过支撑条32和遮挡区域10的配合，可以在不增加支撑框架3精度要求的同时，减小精密掩膜板1中遮挡区域10的面积、扩大边缘区域11的面积，即减小的遮挡区域10内的凹槽101被扩大后边缘区域11中的边缘区开孔111代替，从而减小精密掩膜板1中的起辅助支撑作用的支撑区域(即凹槽101底壁)，降低由于辅助支撑作用的支撑区域分担应力而造成的掩膜板主体中应力不均匀的现象，使得精密掩膜板1的张网效果更好。
52.本技术提供的掩膜板2中，当精密掩膜板1包括围绕蒸镀区域12的遮挡区域10时(如图1所示)，可以省略支撑框架3中的支撑条32，在蒸镀过程中，将精密掩膜板1固定于掩膜边框31上，可以仅仅依靠遮挡区域10完成对蒸镀区域12的限定从而完成蒸镀，省略了支撑条，可以降低操作工艺流程以及成本。
53.以上，仅为本发明的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。
54.还需要说明的是，本发明中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本发明不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。