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专利摘要

本发明提供了一种含氚氢同位素气体中氕的快速去除方法,依次包括以下步骤:a、钯留滞法降氕装置的漏率检验,充He至1.5MPa,保压60min;b、净化前的预处理;c、净化处理;d、后处理。
采用本发明的含氚氢同位素气体中氕的快速去除方法,能够获得低氕含量的含氚氢同位素气体。

专利状态

基础信息

专利号
CN201410354818.3
申请日
2014-07-24
公开日
2014-11-19
公开号
CN104147928A
主分类号
/B/B01/ 作业;运输
标准类别
一般的物理或化学的方法或装置
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
授权

发明人

李嵘 熊义富 蔚勇军 石岩 唐涛 敬文勇 吴文清 何名明 常元庆 郭文胜

申请人

中国工程物理研究院材料研究所

申请人地址

621907 四川省绵阳市江油市华丰新村9号

专利摘要

本发明提供了一种含氚氢同位素气体中氕的快速去除方法,依次包括以下步骤:a、钯留滞法降氕装置的漏率检验,充He至1.5MPa,保压60min;b、净化前的预处理;c、净化处理;d、后处理。
采用本发明的含氚氢同位素气体中氕的快速去除方法,能够获得低氕含量的含氚氢同位素气体。

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