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专利摘要

本实用新型提供了一种应用于液氮冷阱的放溢装置,所述放溢装置具有双层结构,包括杯状主体和防冻保护层,所述防冻保护层设置在所述杯状主体的外表面,所述杯状主体的内直径大于液氮冷阱的外直径,所述杯状主体的内腔底部与所述液氮冷阱的底部连接。
由于液氮冷阱容置在所述放溢装置中,这样工作人员在添加液氮时,一旦有液氮从液氮冷阱中溢出,可以被所述放溢装置容纳,从而避免溢出的液氮对设备或者人员造成危害。

专利状态

基础信息

专利号
CN201920990537.5
申请日
2019-06-26
公开日
2020-06-16
公开号
CN210751366U
主分类号
/B/B01/ 作业;运输
标准类别
一般的物理或化学的方法或装置
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

高金德 陈强

申请人

上海华力微电子有限公司

申请人地址

201315 上海市浦东新区良腾路6号

专利摘要

本实用新型提供了一种应用于液氮冷阱的放溢装置,所述放溢装置具有双层结构,包括杯状主体和防冻保护层,所述防冻保护层设置在所述杯状主体的外表面,所述杯状主体的内直径大于液氮冷阱的外直径,所述杯状主体的内腔底部与所述液氮冷阱的底部连接。
由于液氮冷阱容置在所述放溢装置中,这样工作人员在添加液氮时,一旦有液氮从液氮冷阱中溢出,可以被所述放溢装置容纳,从而避免溢出的液氮对设备或者人员造成危害。

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