一种光刻设备，被布置为将来自图案化装置的图案投影到衬底上，所述光刻设备包括至少一个壳体，所述至少一个壳体包括至少一个内壁；至少一个光学部件，被布置在至少部分地由所述至少一个内壁限定的至少一个腔室内并且被配置为接收辐射束；以及冷却设备，被布置为将所述至少一个内壁的至少一部分冷却至比所述至少一个光学部件的温度低的温度。

G·C·德维雷斯 N·坦凯特

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荷兰维德霍温

一种光刻设备，被布置为将来自图案化装置的图案投影到衬底上，所述光刻设备包括至少一个壳体，所述至少一个壳体包括至少一个内壁；至少一个光学部件，被布置在至少部分地由所述至少一个内壁限定的至少一个腔室内并且被配置为接收辐射束；以及冷却设备，被布置为将所述至少一个内壁的至少一部分冷却至比所述至少一个光学部件的温度低的温度。