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专利名称
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专利号
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申请日期
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专利状态
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1 | 光刻设备 | CN201880024275.5 | 2018-01-31 | 审查中-实审 |
2 | 浸没光刻用真空系统 | CN200580019979.6 | 2005-06-06 | 授权 |
3 | 极紫外光刻用工艺液体组合物及使用其的图案形成方法 | CN201980038436.0 | 2019-05-22 | 审查中-实审 |
4 | 极紫外光刻用工艺液体组合物及使用其的图案形成方法 | CN201980038437.5 | 2019-05-22 | 发明公开 |
5 | 更换光刻胶瓶罐的车辆、电脑系统及更换方法 | CN201910629306.6 | 2019-07-12 | 有效专利 |
6 | 用于直接写入无掩模光刻的方法和设备 | CN201680082781.0 | 2016-12-14 | 审查中-实审 |
7 | 一种通过光刻和化学还原法制备透明电磁屏蔽薄膜的方法 | CN201910078340.9 | 2019-01-28 | 有效专利 |
8 | 用于光刻法中的光刻胶清洁组合物及其用于处理衬底的方法 | CN201680052243.7 | 2016-08-04 | 审查中-实审 |
9 | 制造EUV模块的方法、EUV模块和EUV光刻系统 | CN201680021433.2 | 2016-04-19 | 审查中-公开 |
10 | 一种光刻胶灌装机灌装内部洁净装置 | CN201921368645.5 | 2019-08-22 | 有效专利 |
11 | 纳米级电子光刻 | CN200580002142.0 | 2005-01-12 | 授权 |
12 | 用于立体光刻的陶瓷和玻璃陶瓷浆料 | CN201680053291.8 | 2016-09-23 | 审查中-实审 |
13 | 用于基于光刻地增生制造三维成型体的方法和设备 | CN201780050743.1 | 2017-08-10 | 审查中-实审 |