本发明提供涂布装置、涂布方法及记录介质。
课题在于防止对电路板等处理对象物进行不适当的液体涂布。
涂布装置具备：吐出部，吐出涂布液体；移动机构，使吐出部向三维的各方向即横向、纵向、高度方向移动；搬送机构，将涂布处理对象物搬送到涂布作业位置；高度检测部，能够将由搬送机构搬送来的涂布处理对象物作为测定对象而进行高度测量；及控制部。
控制部进行如下判定处理，针对由搬送机构搬送来的涂布处理对象物，使高度检测部来测定在涂布处理对象物上设定的参考点的高度值，并利用该测定值判定涂布处理对象物是否合适。
并且执行如下涂布控制处理，在判定处理中判定为合适的情况下，通过移动机构来移动吐出部并且吐出对涂布处理对象物的涂布液体。

菊田贤一 篠原秀章

阿尔法设计株式会社

日本长野县

本发明提供涂布装置、涂布方法及记录介质。
课题在于防止对电路板等处理对象物进行不适当的液体涂布。
涂布装置具备：吐出部，吐出涂布液体；移动机构，使吐出部向三维的各方向即横向、纵向、高度方向移动；搬送机构，将涂布处理对象物搬送到涂布作业位置；高度检测部，能够将由搬送机构搬送来的涂布处理对象物作为测定对象而进行高度测量；及控制部。
控制部进行如下判定处理，针对由搬送机构搬送来的涂布处理对象物，使高度检测部来测定在涂布处理对象物上设定的参考点的高度值，并利用该测定值判定涂布处理对象物是否合适。
并且执行如下涂布控制处理，在判定处理中判定为合适的情况下，通过移动机构来移动吐出部并且吐出对涂布处理对象物的涂布液体。